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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0112786 (1980-01-16) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 8 |
Apparatus for supporting a plurality of wafer-like substrates so as to be treatable in a plasma environment. At least three plate-like electrically conductive electrodes are provided. They are parallel to and spaced from one another along an axis. A support adjacent to each electrode supports a wafe
Apparatus for supporting a plurality of wafer-like substrates so as to be treatable in a plasma environment, comprising: at least three plate-like electrically conductive electrodes each having a face parallel to and spaced from one another along an axis; support means adjacent to each of said elect
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