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Mounting and excitation system for reaction in the plasma state 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-013/08
출원번호 US-0112786 (1980-01-16)
발명자 / 주소
  • Dozier Alfred R. (9332 Portsmouth Dr. Huntington Beach CA 92646)
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 8

초록

Apparatus for supporting a plurality of wafer-like substrates so as to be treatable in a plasma environment. At least three plate-like electrically conductive electrodes are provided. They are parallel to and spaced from one another along an axis. A support adjacent to each electrode supports a wafe

대표청구항

Apparatus for supporting a plurality of wafer-like substrates so as to be treatable in a plasma environment, comprising: at least three plate-like electrically conductive electrodes each having a face parallel to and spaced from one another along an axis; support means adjacent to each of said elect

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Scholes Addison B. (Muncie IN), Apparatus for applying durable lubricous coatings to newly formed vitreous surfaces.
  2. Yamawaki ; Masao ; Aoki ; Katsuo ; Oka ; Yoshio ; Suzuki ; Takao ; Ina ; O samu ; Hara ; Kinihiko, Apparatus for transferring semiconductor wafers.
  3. Froberg Robert W. (Easton PA), Apparatus for vapor depositing pyrolytic carbon on porous sheets of carbon material.
  4. Kamada Hiroshi (Tokyo JA), Carrier for processing semiconductor materials.
  5. Dozier ; Alfred R., Cross-flow reactor.
  6. Sullivan John E. (Santa Clara CA), Low stress semiconductor wafer carrier and method of manufacture.
  7. Yoshinaka Akira (Tokyo JA) Aoshima Takaaki (Kokubunji JA) Sugita Yoshimitsu (Kokubunji JA), Method of heat treatment of wafers.
  8. Alberti ; Robert Stanley ; Goldman ; Jon Charles, Pyrolytic deposition of silicon dioxide on semiconductors using a shrouded boat.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Yamazaki, Shunpei; Tashiro, Mamoru; Miyazaki, Minoru; Sakama, Mitsunori; Fukada, Takeshi, CVD apparatus.
  2. Gardner Steven J. (Scottsdale AZ), Electrode boat apparatus for processing semiconductor wafers or the like.
  3. Burkhart, Robert W.; Cox, Allen R.; Hartley, John D., Method of making edge protected ferrite core.
  4. Maher, Jr., Joseph A.; Zafiropoulo, Arthur W., Multi-planar electrode plasma etching.
  5. Fazlin Fazal A. (St. Petersburg FL), Paired electrodes for plasma chambers.
  6. Fazlin Fazal A. (11400 4th St. N. #101 St. Petersburg FL 33702), Plasma desmearing apparatus and method.
  7. Fazlin Fazal A. (Saint Anthony Village MN), Plasma desmearing apparatus and method.
  8. Kishimoto, Katsushi; Fukuoka, Yusuke, Plasma processing apparatus and semiconductor device manufactured by the same apparatus.
  9. Kishimoto, Katsushi; Fukuoka, Yusuke, Plasma processing apparatus and semiconductor device manufactured by the same apparatus.
  10. Engle Frank W. (525 Mission Dr. Pleasanton CA 94566), Plasma reactor and method therefor.
  11. Cannella Vincent D. (Detroit MI) Nath Prem (Rochester MI) Shuman Robert J. (Clawson MI), Reduced capacitance electrode assembly.
  12. Armstrong Richard J. (Phoenix AZ), Wafer carrier and method.
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