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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0152688 (1980-05-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 3 |
A plasma reactor includes a series of parallel disposed electrodes carried in a vacuum vessel chamber. The series of electrodes is adapted to have alternate polarities. Supporting brackets are provided for positioning workpieces, such as multilayer printed circuit boards, parallel to and between ele
A plasma reactor suitable for conditioning workpieces in a gas discharge plasma, comprising: a vacuum vessel having a chamber therein; a series of parallel disposed electrodes supported in said vacuum vessel chamber, said series of electrodes adapted to have alternate polarities; and means for suppo
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