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Plasma reactor and method therefor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-015/00
  • C23F-001/00
출원번호 US-0152688 (1980-05-23)
발명자 / 주소
  • Engle Frank W. (Pleasanton CA)
출원인 / 주소
  • Technics, Inc. (Alexandria VA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 3

초록

A plasma reactor includes a series of parallel disposed electrodes carried in a vacuum vessel chamber. The series of electrodes is adapted to have alternate polarities. Supporting brackets are provided for positioning workpieces, such as multilayer printed circuit boards, parallel to and between ele

대표청구항

A plasma reactor suitable for conditioning workpieces in a gas discharge plasma, comprising: a vacuum vessel having a chamber therein; a series of parallel disposed electrodes supported in said vacuum vessel chamber, said series of electrodes adapted to have alternate polarities; and means for suppo

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Kudo Daiziro (Yokohama JPX), Apparatus for plasma treatment of semiconductor materials.
  2. Engle ; Jr. George M. (San Jose CA), Plasma enhanced chemical vapor processing of semiconductive wafers.
  3. Bartlett Charles J. (Madison NJ) Rhodes Ronald J. (South Plainfield NJ) Rust Ray D. (Berkeley Heights NJ), Treating multilayer printed wiring boards.

이 특허를 인용한 특허 (16)

  1. Youn,Dong Sik; Ha,Sam Chul, Apparatus for fixing an electrode in plasma polymerizing apparatus.
  2. Uehara, Akira; Hijikata, Isamu; Nakane, Hisashi; Nakayama, Muneo, Automatic plasma processing device and heat treatment device for batch treatment of workpieces.
  3. Westfall Raymond T. (Seminole FL) Feldl Erich J. (Seminole FL), Continuous gas plasma etching apparatus and method.
  4. Tanaka, Samuel Lewis; Greenberg, Thomas Larson, Etching source installable in a storage medium processing tool.
  5. Zukotynski Stefan (32 Maryvale Cresc. Richmond Hill ; Ontario CAX L4C 6P8) Kruzelecky Romon V. (352 Brigadoon Dr. Hamilton ; Ontario CAX L9C 6X4) Gaspari Franco (142 Abbeywood Dr. Don Mills ; Ontario, Method and apparatus for the plasma etching, substrate cleaning, or deposition of materials by D.C. glow discharge.
  6. Burkhart, Robert W.; Cox, Allen R.; Hartley, John D., Method of making edge protected ferrite core.
  7. Brown, Danny; Sharpless, Leonard, Movable chamber liner plasma confinement screen combination for plasma processing apparatuses.
  8. Maher, Jr., Joseph A.; Zafiropoulo, Arthur W., Multi-planar electrode plasma etching.
  9. Fazlin Fazal A. (St. Petersburg FL), Paired electrodes for plasma chambers.
  10. Fazlin Fazal A. (11400 4th St. N. #101 St. Petersburg FL 33702), Plasma desmearing apparatus and method.
  11. Fazlin Fazal A. (Saint Anthony Village MN), Plasma desmearing apparatus and method.
  12. Kishimoto, Katsushi; Fukuoka, Yusuke, Plasma processing apparatus with an exhaust port above the substrate.
  13. Engle Frank W. (525 Mission Dr. Pleasanton CA 94566), Plasma reactor and method therefor.
  14. Frohlich Sigurd (Santa Barbara CA) Morris James V. (El Toro CA), Process for plasma desmear etching of printed circuit boards and apparatus used therein.
  15. Kishimoto, Katsushi; Fukuoka, Yusuke; Fujioka, Yasushi; Fukuda, Hiroyuki; Nomoto, Katsuhiko, Semiconductor device manufacturing unit and semiconductor device manufacturing method.
  16. Harper J. Cletus (Huntsville AL), Spring tensioned wire resistance heater.
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