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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0146642 (1980-05-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 5 |
A developing solution for use with imaging film comprising a photoresist layer over an aluminum coated substrate and the process of developing the film are shown to be rapid acting. The developing solution comprises an aqueous solution having a pH of at least 12.5 of an alkali metal hydroxide and a
A process for forming an image on a photosensitive element comprising (1) a substrate, (2) a metal containing layer on said substrate, and (3) a photoresist layer on said aluminum containing layer, which photoresist layer becomes differentially soluble in aqueous alkaline solution in light struck ve
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