[특허]Photoresist developers and process

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Photoresist developers and process 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03C-005/00
출원번호	US-0146642 (1980-05-05)
발명자 / 주소	Fisch Richard S. (St. Paul MN)
출원인 / 주소	Minnesota Mining and Manufacturing Company (St. Paul MN 02)
인용정보	피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 5

초록 ▼

A developing solution for use with imaging film comprising a photoresist layer over an aluminum coated substrate and the process of developing the film are shown to be rapid acting. The developing solution comprises an aqueous solution having a pH of at least 12.5 of an alkali metal hydroxide and a

대표청구항 ▼

A process for forming an image on a photosensitive element comprising (1) a substrate, (2) a metal containing layer on said substrate, and (3) a photoresist layer on said aluminum containing layer, which photoresist layer becomes differentially soluble in aqueous alkaline solution in light struck versus non-light struck areas, said process comprising exposing said element to light of sufficient intensity to cause light struck and non-light struck areas of said photoresist to become differentially soluble in aqueous alkaline solution and then developing said element by agitating the element in contact with a developing solution comprising an aqueous alkaline solution having a pH of from 12.5 to 13.7 containing an alkali metal hydroxide and a chelating agent for aluminum ion having a stability constant of greater than 6.7.

이 특허에 인용된 특허 (5)

Gibson Sandra F. (St. Louis County MO) Fadler Norman L. (St. Peters MO), Apparatus and process for determining the susceptibility of microorganisms to antibiotics.
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Ikeda Tomoaki (Asaka JA) Ikeda Sadaharu (Asaka JA) Mizobuchi Yuzo (Asaka JA) Tomotsu Takeshi (Asaka JA), Metallic image forming material.
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Cohen Abraham B. (Springfield NJ) Heiart Robert B. (Middletown NJ), Method for making photoresists.
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Washizawa ; Yasuo ; Ikeda ; Tomoaki, Process for reducing halftone dot images.
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Bendz ; Diana Jean ; Bendz ; Gerald Andrei, Process for stripping resist layers from substrates.
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이 특허를 인용한 특허 (8)

Doan, Trung T., Chemical dispensing system for semiconductor wafer processing.
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Doan,Trung T., Chemical dispensing system for semiconductor wafer processing.
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Walls John E. (Wiesbaden Biebrich DEX), Developer composition with sodium, lithium and/or potassium salts for developing negative working imaged photographic ma.
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Matsumoto Hiroshi (Shizuoka JPX) Kita Nobuyuki (Shizuoka JPX), Developing solution for light-sensitive printing plates.
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Hsieh Shane (Bridgewater NJ), Inorganic lithium developer composition.
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Levanon, Moshe; Askadsky, Leonid, Method of providing lithographic printing plates.
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Orensteen Bruce D. (St. Paul MN) Bradshaw Thomas I. (Afton MN), Microlens sheet containing directional half-tone images and method for making the same.
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Kita Nobuyuki (Shizuoka JPX) Matsumoto Hiroshi (Shizuoka JPX) Hagiwara Hitoshi (Shizuoka JPX), Process for developing light-sensitive o-quinonediazide lithographic plates with developing solution having cobalt or ni.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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