[특허]Dry film multilayer photoresist element

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03C-001/78
출원번호	US-0205444 (1980-08-25)
우선권정보	SU-2695701 (1978-12-25)
발명자 / 주소	Kuznetsov Vladimir N. (ulitsa Jubileinaya 6 kv. 73 Istra Moskovskoi oblasti SUX) Smirnova Nadezhda F. (ulitsa Sovetskaya 13 kv. 33 Istra Moskovskoi oblasti SUX) Karpov Vladimir D. (ulitsa Kir
인용정보	피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 2

초록 ▼

A dry film photoresist consisting of a two-layer base incorporating a solid polymeric substrate with a thickness of from 15 to 100mmmm

대표청구항 ▼

A dry film photoresist which is a flexible laminated system comprising a solid polymeric substrate with a thickness of from 15 to 100ma light-sensitive layer having a thickness of 4 to 20mcomprising at least one light-sensitive compound capable of forming free radicals upon exposure to UV-radiation, at least one unsaturated compound containing in its molecule ethylene-like [Figure] and also at least one polymer layer, and a protective polymeric film with a thickness of from 5 to 50mlocated above the light-sensitive layer, characterized in that between the solid polymeric substrate and the light-sensitive layer there is an intermediate polymeric layer, transparent to UV-radiation within the range of 300 to 400 nm, having a thickness of 3 to 15mconsisting of a polymeric alcohol or a polymeric ester or a polyamide, or a halogenated polymer, or polyacrylonitrile, or mixtures thereof, all said four layers being bonded therebetween by adhesion forces so that the adhesion of said polymeric protective film to said light-sensitive layer is less than the cohesion strength of said light-sensitive layer, the adhesion of said solid polymeric substrate to said intermediate polymeric layer is less than the adhesion of said intermediate polymeric layer to the light-sensitive layer and the adhesion force of each of said three layers is less than the cohesion strength of each of said layers.

이 특허에 인용된 특허 (2)

Frosch Robert A. Administrator of the National Aeronautics and Space Administration ; with respect to an invention of ( North Haldon NJ) Fuhr Wolfgang (North Haldon NJ), Method for applying photographic resist to otherwise incompatible substrates.
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Cohen Abraham B. (Springfield NJ) Fan Roxy N. (East Brunswick NJ), Negative-working multilayer photosensitive tonable element.
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이 특허를 인용한 특허 (12)

Axon Frederick J. (Manchester CA GB2) Briguglio James J. (Newport Beach CA) Candore Amedeo (Bodio Lomnago ITX) Lightfoot Lawson (Chesire CA GB2) Crooks Clancy P. (Cypress CA) Roos Leo (Laguna Beach C, Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like.
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Kroeninger, Werner; Schneegans, Manfred, Method for applying a resist layer, uses of adhesive materials, and adhesive materials and resist layer.
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Kröninger, Werner; Schneegans, Manfred, Method for applying a resist layer, uses of adhesive materials, and adhesive materials and resist layer.
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Kr��ninger,Werner; Schneegans,Manfred, Method for applying a resist layer, uses of adhesive materials, and adhesive materials and resist layer.
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Duval Paul J., Method for forming photoresist features having reentrant profiles using a basic agent.
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Nishikubo, Tadatomi; Kameyama, Atsushi; Sasaki, Masaki; Kusama, Masatoshi; Onodera, Seiya, Photocurable/thermosetting resin composition, photosensitive dry film formed therefrom, and method of forming pattern with the same.
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Kubota, Masao; Takano, Shinji; Yamada, Eiichirou, Photosensitive element.
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Kubota, Masao, Photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for producing printed circuit board.
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Nakamura Shohei (Fuji JPX) Tuji Yoshimasa (Fuji JPX), Process for preparing a mask for sandblasting.
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Mertes Jurgen,DEX ; Michel Manfred,DEX, Radiation-sensitive material containing a multilayer support material.
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Kubler Virginia L. ; Winckler Lisa Y., UV shield.
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Grimm, Daniel; Bauer, Martin; Schmidt, Oliver G.; Suzuki, Shoichiro, Ultra compact micro capacitor and method for producing same.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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