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Method of making a catalytic electrode 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-015/00
출원번호 US-0200509 (1980-10-24)
발명자 / 주소
  • Harris Lawrence A. (Schenectady NY)
출원인 / 주소
  • General Electric Company (Schenectady NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 1

초록

A catalytic electrode is produced by sputter etching the surface of a conductor with ions of an inert gas to remove oxide therefrom and introduce disorder into the surface making it chemically reactive and depositing a catalytic metal on the etched surface of the conductor in at least a catalytic am

대표청구항

A method for producing a catalytic electrode consisting essentially of an electrical conductor and an adherent deposit of catalytic metal which consists essentially of providing a catalytic metal selected from the group consisting of platinum, palladium, nickel, rhodium and iridium, providing a supp

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Saxena Arjun N. (Palo Alto CA) Hart Courtney (San Jose CA), Method of fabricating metal-semiconductor interfaces.

이 특허를 인용한 특허 (16)

  1. Brey, Larry A.; Wood, Thomas E.; Buccellato, Gina M.; Damte, Gezahegan D.; Fansler, Duane D.; Jones, Marvin E., Catalytically active gold supported on thermally treated nanoporous supports.
  2. Kisner Howard D. (Wichita Falls TX), Control of electron bombardment of the exhaust oxygen sensor during electrode sputtering.
  3. Hardee Kenneth L. ; Ernes Lynne M. ; Carlson Richard C., Electrodes of improved service life.
  4. Ovshinsky, Stanford R.; Sapru, Krishna; Liang, Gao, Electrolytic cell anode.
  5. Ovshinsky, Stanford R.; Sapru, Krishna; Yee, Edmund L., Electrolytic cell cathode.
  6. Klitsner, Tom; Sylwester, Alan P.; Ryba, Gail N.; Zipperian, Thomas E.; Kravitz, Stanley H.; Hecht, Andrew, Fuel cell and membrane.
  7. Klitsner, Tom; Sylwester, Alan P.; Ryba, Gail N.; Zipperian, Thomas E.; Kravitz, Stanley H.; Hecht, Andrew, Fuel cell and membrane.
  8. Kisner Howard D. (Wichita Falls TX), High rate sputtering of exhaust oxygen sensor electrode.
  9. Venkatesan, Srinivasan; Pinsky, Naum; Sapru, Krishna, Hydrogen sulfide decomposition cell and catalytic materials therefor.
  10. Gestaut Lawrence J. (Painesville OH), Immersion deposited cathodes.
  11. Gould Herbert J. (Sherman Oaks CA), Metallizing process and structure for semiconductor devices.
  12. Ionescu Adrian C. (Hawthorne CA), Metallizing process for semiconductor devices.
  13. Hardee Kenneth L. (Middlefield OH) Ernes Lynne M. (Willoughby OH) Carlson Richard C. (Euclid OH), Method of preparing electrodes of improved service life.
  14. Bockris John O. (College Station TX) Szklarczyk Marek (Piaseczno TX PLX) Contractor Aliasgar Q. (College Station TX), Photo-assisted electrolysis cell with p-silicon and n-silicon electrodes.
  15. Stemple Donald K. (Tempe AZ), Reactive sputter cleaning of semiconductor wafer.
  16. Kitada Masahiro (Tokyo JPX) Yamamoto Hiroshi (Tokyo JPX) Suenaga Masahide (Odawara JPX) Shimizu Noboru (Tokorozawa JPX), Thin-film permanent magnet and method of producing the same.
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