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Change of distance measuring apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01C-003/08
  • G01B-011/30
출원번호 US-0125209 (1980-02-27)
우선권정보 DE-2908757 (1979-03-06)
발명자 / 주소
  • Rss Dieter (Planegg DEX) Baumgartner Viktor (Taufkirchen DEX)
출원인 / 주소
  • Erwin Sick GmbH Optik-Electronik (Waldkirch DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 6

초록

Change of distance measuring apparatus features a light transmitter - receiver unit 23 which is used to sense the distance A to the surface of a measurement object 35 and more particularly to sense changes in the distance A occurring due to changes in thickness of the measurement object 35 as it mov

대표청구항

Change of distance measuring apparatus for measuring the change of a distance from a datum to a surface, the apparatus comprising a monochromatic laser light source for generating a laser light beam, means limiting the laser light beam emitted from said source to the zero order diffraction beam, bea

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Nodwell Roy A. (West Vancouver CA) Richards Steven L. F. (Vancouver CA), Apparatus for determining the position of a surface.
  2. Rosen Charles A. (Atherton CA), Combined ranging and color sensor.
  3. Pentecost Eugene E. (Anaheim CA), Integrated automatic ranging device for optical instruments.
  4. Misek Victor A. (Hudson NH), Method and apparatus for passive optical fusing and distance measurement.
  5. Sperrazza Joseph L. (New Haven CT), Optical gaging system.
  6. Honjo ; Yoshihiko ; Kuroda ; Junji, System for detecting height fluctuations of a surface on a recording medium in an optical recording or reproducing appa.

이 특허를 인용한 특허 (18)

  1. LaPolice, George D., Adjustable mirror for collimated beam laser sensor.
  2. Wu Frederick Y. (Cos Cob CT), Apparatus for detecting defocus.
  3. Altendorf, Eric Herbert; Harsila, Scott; Watson, Matthew David, Focus detection apparatus having extended detection range.
  4. Reynolds George O. (Waban MA), High sensitivity focal sensor for electron beam and high resolution optical lithographic printers.
  5. Amano, Yusuke; Karasawa, Masayoshi, Inverted microscope system.
  6. Wang Charles P. (1180 Mahalo Pl. Compton CA 90220), Laser doppler displacement measuring system and apparatus.
  7. Taylor Francis M. (1620 Charlton Mill Rd. Xenia OH 45385), Method and apparatus for optically measuring the distance to a workpiece.
  8. Ehbets,Hartmut, Method and device for optically measuring distance or speed.
  9. Abshire James B. (Laurel MD), Method and system for determining surface profile information.
  10. Penney Carl M. (Schenectady NY), Method and system for determining surface profile information.
  11. Bryll, Robert Kamil, Method for programming a three-dimensional workpiece scan path for a metrology system.
  12. Makita Haruomi (Nagoya JPX), Moving blade tip clearance measurement apparatus and method with moveable lens.
  13. Okudaira Sadao (Tokyo JPX) Hama Yoshihiro (Tokyo JPX) Urata Shinji (Tokyo JPX), Optical system for TTL automatic focusing video camera.
  14. Konishi Yoshikazu (Tokyo JPX) Akimoto Shigeyuki (Tokyo JPX), Position detecting apparatus which uses a continuously moving light spot.
  15. Laskowski Edward L. (Seven Hills OH), Range finder wherein distance between target and source is determined by measuring scan time across a retroreflective ta.
  16. Watson, Mathew David, Surface height and focus sensor.
  17. Penney Carl M. (Schenectady NY) Roy Robert N. (Altamonte Springs FL) Thomas Bradley S. (Altamonte Springs FL), Swept aperture flying spot profiler.
  18. Northrup, Ryan; Yu, Dahai; Sonobe, Hirato, System and method for controlling a tracking autofocus (TAF) sensor in a machine vision inspection system.
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