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Method and apparatus for photogoniometric analysis of surfaces 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-021/55
  • G01N-021/47
출원번호 US-0147854 (1980-05-08)
발명자 / 주소
  • Provder Theodore (Olmsted Falls OH) Holsworth Richard M. (Westlake OH) Koehler Mark E. (Middleburg Heights OH)
출원인 / 주소
  • SCM Corporation (Cleveland OH 02)
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 1

초록

A method and apparatus for photogoniometric analysis of surfaces is disclosed. A photogoniometric instrument includes a light source (12) for providing a collimated beam of light illuminating a test surface (18). A light detector (20) is mounted for rotation about the point of intersection of the il

대표청구항

A method of analyzing the specular reflectance characteristics of a test surface comprising the steps of: illuminating said test surface with a collimated beam of light incident on said surface at a known angle, measuring the reflectance characteristics of said test surface by measuring the intensit

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Mutter Walter E. (Poughkeepsie NY), Gloss measuring instrument.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Dana,Kristin J., Apparatus and method for measuring spatially varying bidirectional reflectance distribution function.
  2. Li, Wei; Chow, Ross; Curtis, Jim Boyd; Chen, Xiaocai Joyce, Apparatus and method for obtaining a reflectance property indication of a sample.
  3. Willing Achim,DEX, Device for color matching or color measurement.
  4. Eaton Homer L. (Leucadia CA) Schmidt Joe (Oceanside CA), Event scanning.
  5. Guttman, Jeffrey L., Far-field scanning apparatus and method for rapid measurement of light source characteristics with high dynamic range.
  6. Guttman Jeffrey L. ; Fleischer John M. ; Saba Simon E., Goniometric scanning radiometer.
  7. Hammer,Michael R.; Francis,Robert J., Measuring specular reflectance of a sample.
  8. Dana, Kristin; Livescu, Gabriela; Lu, Yicheng, Method and apparatus for making and detecting a document verification indicator using optical pattern encryption.
  9. Venable William H. (Falls Church VA), Modeling properties of flake finishes using directional resolution and statistical flake orientation distribution functi.
  10. Wadman,Sipke, Scatterometer and a method for observing a surface.
  11. Comment Alain (Echirolle FRX) James Yannick C. (Cergy FRX) Etienne Jeanine (Le Chesnay FRX) Crisafulli Emilio (Milan ITX), Skin reflectance measuring apparatus.
  12. Yamaji Hiroshi (Yokohama JPX) Ogawa Shigeru (Yokohama JPX) Okumura Katsuya (Yokohama JPX), Surface condition judging apparatus.
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