$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Apparatus for continuously depositing a layer of a solid material on the surface of a substrate heated to a high tempera 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05B-007/00
  • C23C-013/10
출원번호 US-0236134 (1981-02-18)
우선권정보 CH-0001412 (1979-02-14)
발명자 / 주소
  • Kalbskopf Reinhard (Onex CHX) Baumberger Otto (Carouge CHX)
출원인 / 주소
  • Societe Italiana Vetro-Siv-S.p.A. (San Salvo ITX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 1

초록

By means of the nozzle, three gaseous curtains are formed converging on the surface of the substrate heated to a temperature of about 600°C. which is driven in translatory movement, the intermediate curtain being constituted by a gaseous reactant or a reactant diluted in a carrier gas and the two la

대표청구항

Apparatus for continuously depositing on the surface of a heated substrate a layer of solid material formed from the reaction of at least two reactants selected from gaseous reactants and reactants diluted in inert carrier gas, which apparatus comprises: a source of a first gaseous reactant or react

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Sopko John F. (New Kensington PA) Simhan Krishna (Fischbach DT), Chemical vapor deposition of coatings.

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Dick Kenneth W. ; Marshall Richard L., Adjustable nozzle for evaporation or organic monomers.
  2. Lindner Georg H. (Haydnlaan NLX), Apparatus for coating a substrate.
  3. Kalbskopf Reinhard (Vordemwald CHX) Baumberger Otto (Carouge CHX) Masson Serge (Orange FRX), Apparatus for continuously depositing a layer of a solid material on the surface of a substrate brought to a high temper.
  4. Nelson, Douglas M.; Williams, Ian R.; Soubeyrand, Michel J.; Strickler, David A.; Sanderson, Kevin D.; Seto, Yasunori; Tsuri, Keiko, Apparatus for depositing thin film coatings and method of deposition utilizing such apparatus.
  5. Schmitt Jerome J. ; Halpern Bret L., Apparatus for the high speed, low pressure gas jet deposition of conducting and dielectric thin sold films.
  6. Hurst, Simon James; Ammerlaan, Johannes Andreas Maria; McCurdy, Richard Joseph, Coatings on substrates.
  7. Neal, James W.; Maloney, Michael J.; Litton, David A.; Masucci, Christopher, Deposition apparatus having thermal hood.
  8. Levy, David H.; Kerr, Roger S.; Carey, Jeffrey T., Deposition system for thin film formation.
  9. Gerold Fleissner CH, Device with nozzle beam for producing streams of liquid for spraying fibers in a web of goods.
  10. Neal, James W.; Maloney, Michael J.; Litton, David A.; Masucci, Christopher, Electron beam vapor deposition apparatus and method.
  11. Kobayashi Shigeyoshi (Kawasaki JPX) Yaba Susumu (Yokohama JPX) Takigawa Tomoya (Yokohama JPX), Gas feeding nozzle for a chemical vapor deposition apparatus.
  12. Schmitt Jerome J. (265 College St. (12N) New Haven CT 06510), Method and apparatus for the deposition of solid films of a material from a jet stream entraining the gaseous phase of s.
  13. McCurdy Richard J., Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass.
  14. Soubeyrand Michel J. (Holland OH) Halliwell Anthony C. (Formby GB2), Method for forming tin oxide coating on glass.
  15. Neal, James W; Maloney, Michael J.; Litton, David A.; Masucci, Christopher, Method for use with a coating process.
  16. Charles B. Greenberg ; Caroline S. Harris ; Vincent Korthuis ; Luke A. Kutilek ; David E. Singleton ; Janos Szanyi ; James P. Thiel, Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same.
  17. Greenberg,Charles B.; Harris,Caroline S.; Korthuis,Vincent; Kutilek,Luke A.; Singleton,David E.; Szanyi,Janos; Thiel,James P., Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same.
  18. Florczak Glenn P., Preparation of fluorine modified, low haze, titanium dioxide films.
  19. Gordon Roy G. (22 Highland St. Cambridge MA 02138), Reactor for continuous coating of glass.
  20. Stephens, David E., Soldering apparatus exhaust system.
  21. Greenberg, Charles B.; Szanyi, Janos, Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로