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Production method for solder coated conductor wiring 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C25D-005/02
  • C25D-005/10
  • C25D-005/50
출원번호 US-0235575 (1981-02-18)
우선권정보 JP-0019207 (1980-02-20)
발명자 / 주소
  • Kurihara Keisuke (Yokohama JPX)
출원인 / 주소
  • Hitachi, Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 0

초록

A method of production of solder coated conductor wiring wherein a lead layer and a tin layer are separately applied to the surface of a ceramic substrate in superposed relation, and subjected to heat treatment at a temperature suitable for alloying the lead and tin into a lead-tin alloy, to provide

대표청구항

A production method for solder coated conductor wiring comprising the following steps (a) through (g): (a) a thin metal film selected from the group consisting of chromium, nichrome and titanium is formed on a ceramic substrate by vacuum deposition or sputtering, (b) a thin copper film is formed on

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Wilson James Warren, Ball grid array having no through holes or via interconnections.
  2. Anschel Morris (Wappingers Falls NY) Ormond Douglas W. (Wappingers Falls NY) Hayunga Carl P. (Poughkeepsie NY), Thin film metallization process for improved metal to substrate adhesion.
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