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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0233974 (1981-02-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 92 인용 특허 : 2 |
A rotatable magnetron cathode sputtering apparatus for operation within an evacuable chamber for coating substrates that are also contained within said chamber. The cathode comprises an elongated cylindrical tube having a layer of the coating material or materials to be sputtered applied to the oute
A method of sputtering thin films of a selected coating material upon substantially planar substrates, in which there is provided an evacuated coating chamber enclosing an elongated, cylindrical tubular member having a layer of the coating material to be sputtered applied to the outer surface thereo
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