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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0248347 (1981-03-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 3 |
A dry-developing dry film resist is provided comprising a photopolymerizable layer preferably sandwiched between a support sheet and a cover sheet, the layer comprising polymerizable monomer in excess of the absorptive capacity of the layer, photopolymerization initiator, and binder component of a p
A process for selectively modifying a surface, comprising laminating a dry-developing dry film resist layer to said surface, imagewise exposing said layer to actinic radiation, removing said support sheet from said layer, whereby the exposed area of said layer remains on said surface and the unexpos
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