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Optical alignment of masks for X-ray lithography 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01B-009/02
출원번호 US-0121350 (1980-02-14)
발명자 / 주소
  • Thaxter James B. (Townsend MA)
출원인 / 주소
  • Sperry Corporation (New York NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 5

초록

Optical alignment of the relative positions of cooperating masks and substrates is achieved for use in the generation by x-radiation of complex and compact patterns. Small fiduciary marks are actually illuminated by coherent visible light and the resultant diffraction patterns are used for alignment

대표청구항

Apparatus for aligning a first planar optically transparent element with respect to a second planar optically transparent element disposed in substantially parallel relation comprising: first and second thin films affixed to major adjacent surfaces of said first and second planar elements respective

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Smith Henry I. (Sudbury MA) Austin Stewart S. (Queens NY) Flanders Dale C. (Guilford ME), Alignment of diffraction gratings.
  2. Snow Kenneth A. (San Jose CA), Apparatus and method for fine alignment of a photomask to a semiconductor wafer.
  3. Gates ; John William Charles ; Hall ; Roy Geoffrey Noel ; Ross ; Ian N orman ; Stevens ; Richard Frederick, Optical apparatus for determining relative positioning of two members.
  4. Kleinknecht Hans P. (Bergdietikon NJ CHX) Bsenberg Wolfram A. (Monmouth Junction NJ), Photomask alignment system.
  5. Feldman Martin (Murray Hill NJ) White Alan David (Berkeley Heights NJ), Zone plate alignment marks.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Hadimioglu Babur B. (Mountain View CA) Lim Martin (Union City CA), Acoustic printheads with optical alignment.
  2. Ebbesen Thomas W. ; Grupp Daniel E. ; Thio Tineke ; Lezec Henri J.,FRX, Enhanced optical transmission apparatus utilizing metal films having apertures and periodic surface topography.
  3. Thio, Tineke; Linke, Richard A.; Pellerin, Kelly M.; Ebbesen, Thomas W.; Lezec, Henri J., Enhanced optical transmission apparatus with improved aperture geometry.
  4. Kim Tae Jin ; Krishnan Ajit ; Thio Tineke ; Lezec Henri Joseph,FRX ; Ebbesen Thomas W.,FRX, Enhanced optical transmission apparatus with improved inter-surface coupling.
  5. Feldman Martin (Berkeley Heights NJ) Reece David N. (Irvington NJ) Wagner John S. (Lebanon NJ), Focus tracking system.
  6. Inada, Keiji; Ishii, Mikihiko; Koike, Tetsuya, Interferometric apparatus for detecting 3D position of a diffracting object.
  7. Inada, Keiji; Ishii, Mikihiko; Koike, Tetsuya, Interferometric apparatus for detecting 3D position of a diffracting object.
  8. Ebbesen Thomas W. ; Ghaemi Hadi F. ; Thio Tineke ; Wolff Peter A., Near-field scanning optical microscope having a sub-wavelength aperture array for enhanced light transmission.
  9. Kim Tae Jin ; Thio Tineke ; Ebbesen Thomas Wren, Optical transmission control apparatus utilizing metal films perforated with subwavelength-diameter holes.
  10. Ebbesen Thomas W. ; Ghaemi Hadi F. ; Thio Tineke ; Wolff Peter A., Sub-wavelength aperture arrays with enhanced light transmission.
  11. Tineke Thio, Surface-plasmon enhanced photovoltaic device.
  12. Tobiason,Joseph D; Sesko,David W; Jones,Benjamin K; Milvich,Michelle M; Venkatachalam,Vidya, Systems and methods for tilt and range measurement.
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