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Pressure wave charged repetitively pulsed gas laser 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01S-003/03
출원번호 US-0201959 (1980-10-29)
발명자 / 주소
  • Kulkarny Vijay A. (Redondo Beach CA)
출원인 / 주소
  • The United States of America as represented by the United States Department of Energy (Washington DC 06)
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 3

초록

A repetitively pulsed gas laser in which a system of mechanical shutters bracketing the laser cavity manipulate pressure waves resulting from residual energy in the cavity gas following a lasing event so as to draw fresh gas into the cavity and effectively pump spent gas in a dynamic closed loop.

대표청구항

In a repetitively pulsed gas laser comprising a lasing cavity in a laser duct having open upstream and downstream ends, means for initiating a lasing event in said cavity and means for defining a closed loop gas path including inlet and exhaust chambers connected to said duct ends, the improvement c

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Camac Morton (Lexington MA), CW shock initiated HF/DF laser.
  2. McMahan William H. (1467 Penrose Dr. Salt Lake City UT 84122), Laser device.
  3. Daugherty Jack D. (Winchester MA) Kantrowitz Arthur R. (Cambridge MA) Sutton George W. (Lexington MA) Zappa Oswald L. (Stoneham MA), Laser operation with closed gas and tuned duct pulsing.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Weiss Hardy P. (IM Seeblick 8821 Hutten CHX), Axial gas laser and process for stabilizing its operation.
  2. Laderman, Arnold J.; Bergthold, Jr., Frederick M., Laser beam duct pressure controller system.
  3. Fino Jeffrey J. (Melville NY) Faulkner George E. (Dallas TX), Pressure-wave cycled, repetitively pulsed gas laser.
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