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Reagent tailoring for a chemical gas laser to obtain uniform initial chemical reaction rate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01S-003/05
출원번호 US-0099334 (1979-12-03)
발명자 / 주소
  • Thayer
  • III William J. (Kent WA) Artura Carmine J. (Kent WA)
출원인 / 주소
  • The Boeing Company (Seattle WA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 1

초록

A method and apparatus for tailoring the concentration profiles of reactant and diluent species in the gas stream of a pulsed chemical laser provide a substantially uniform initial chemical reaction rate and index of refraction across the laser cavity. In the preferred embodiment, a gas stream is co

대표청구항

A method of providing a uniform initial chemical reaction rate in a chemical gas laser wherein a chemical reaction between gaseous reactant species produces excited reaction product species, said laser including a resonant laser cavity and an external source of radiation for initiating said reaction

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Witte Arvel B. (Rolling Hills CA) Broadwell James E. (Palos Verdes Estates CA) Hook Dale L. (Rancho Palos Verdes CA), Chemical laser with mixing enhancement device for power improvement.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Dale Smyth, Beam delivery system.
  2. Injeyan Hagop (Los Angeles CA) Wang John H. S. (Rancho Palos Verdes CA), CW HF R-branch laser.
  3. Takazane, Tetsuhisa, Carbon dioxide gas laser oscillator which can estimate composition ratio of laser gas.
  4. Hon John F. (Tarzana CA), Chemical laser inhibited for pulsed output.
  5. Ullman, Alan Zachary; Vetrovec, Jan; Bauer, Arthur H.; McDermott, William E., Sealed exhaust chemical oxygen-iodine laser system.
  6. Caledonia George E. (Milton MA) Krech Robert H. (Saugus MA) Green Byron D. (Reading MA) Pirri Anthony N. (Andover MA), Source of high flux energetic atoms.
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