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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0289172 (1981-08-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 2 |
A two stage low temperature adsorptive separation process for removing HCl and H2S from a catalytic reforming offgas to make the offgas useful as a feed to a steam reforming process. In the first stage the offgas is passed through a molecular sieve bed that adsorbs HCl selectively. In the second bed
A substantially continuous adsorptive separation process for removing HCl and H2S from a catalytic reforming offgas that contains less than about 10 ppm each of HCl and H2S to make the offgas useful as a feedgas for a steam reforming process comprising: (a) passing the offgas at a temperature in the
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