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Purging apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-009/02
출원번호 US-0248519 (1981-03-27)
발명자 / 주소
  • Lorenz, Andrew K.
  • Mobley, Scott R.
출원인 / 주소
  • Valin Corporation
대리인 / 주소
    Schatzel, Thomas E.
인용정보 피인용 횟수 : 29  인용 특허 : 2

초록

A purging apparatus having a process gas connector wherein a purging gas is injected into the connector so that trapped process gas is thoroughly purged from the connector. Tubing in the shape of a double helix is connected to the process gas connector. One tube of the double helix is connected to a

대표청구항

1. A purging apparatus comprising: first source means for receiving a purging gas source; first valve source means connected to the first means for receiving said purging gas source for controlling the flow of said purging gas; a first flexible tube connected to the first valve means; a proces

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Otteman John H. (11940 E. Washington Blvd. Whittier CA 90606) Gray William M. (1191 Lenor Way San Jose CA 95128), Gas supply system with purge means.
  2. Krivanek ; III ; Charles S., Low pressure gas regulator.

이 특허를 인용한 특허 (29)

  1. Schweiger Delano (9500 Winterbrook Way Orangevale CA 95662), Apparatus and method for cleaning heat exchangers.
  2. Dietz James, Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels.
  3. Enicks, Darwin Gene; Carver, Damian, Bandgap and recombination engineered emitter layers for SiGe HBT performance optimization.
  4. Enicks,Darwin Gene; Carver,Damian, Bandgap engineered mono-crystalline silicon cap layers for SiGe HBT performance enhancement.
  5. Ohmi Tadahiro (Sendai JPX) Sugiyama Kazuhiko (Sendai JPX) Nakahara Fumio (Sendai JPX) Umeda Masaru (Tokyo JPX), Cylinder cabinet piping system.
  6. Lyden Thomas B. (Schaumburg IL), Deflection yoke assembly and mounting arrangement.
  7. Wilmer Michael E., Dynamic gas flow controller.
  8. Barker,Joseph Raymond; Botelho,Alexandre De Almeida; Collins,John Timothy; Toth,Andrew Joseph; Pearlstein,Ronald Martin, Enhanced purge effect in gas conduit.
  9. Kitamura, Masato; Noda, Toshiaki; Katsuki, Masumi; Natsume, Hideko, Evacuation and inert gas introduction apparatus.
  10. Linz Dieter (Bad Soden DEX) Elsner Peter (Frankfurt DEX), Flushing unit.
  11. Zheng Dao-Hong,GBX ; Irven John,GBX ; George Mark Allen, Gas control device and method of supplying gas.
  12. Zheng, Dao-Hong; Irven, John; George, Mark Allen, Gas control device and method of supplying gas.
  13. Zheng, Dao-Hong; Irven, John; George, Mark Allen, Gas control device and method of supplying gas.
  14. Yokogi Kazuo,JPX, Gas supply system equipped with cylinders.
  15. Itafuji Hiroshi,JPX, Gas supply unit.
  16. Bowers, James R., Manual purge system for instrumentation flow element tubing.
  17. Ted G. Yoshidome ; Tushar Mandrekar ; Nitin Khurana ; Anish Tolia, Method and apparatus for removing processing liquid from a processing liquid path.
  18. Enicks,Darwin Gene, Method and system for controlled oxygen incorporation in compound semiconductor films for device performance enhancement.
  19. Agnew A. Patrick,CAXITX T2H 2Z2, Portable compression system for pipeline purging.
  20. Nomoto, Hiroki; Murata, Kenichiro; Kishimoto, Mitsuharu, Powder and granular material supply system for closed system.
  21. Williams, Todd E.; Desch, Steven M., Process gas controller.
  22. Ohmi Tadahiro (Sendai JPX) Sugiyawa Kazuhiko (Sendai JPX) Nakahara Fumio (Sendai JPX) Umeda Masaru (Tokyo JPX), Process gas supply piping system.
  23. Yelverton, Mark E.; Campbell, Mark A., Process line purge system and method.
  24. Pearlstein,Ronald Martin; Langan,John Giles; Zheng,Dao Hong; Irven,John; Hertzler,Benjamin Lee, Sub-atmospheric gas delivery method and apparatus.
  25. Ohmi Tadahiro (1-17-301 ; Komegabukuro 2-chome Sendai-shi ; Miyagi-ken 980 JPX), System for supplying ultrahigh purity gas.
  26. Enicks, Darwin G.; Friedrichs, Carl E.; Brucher, Richard A., System, apparatus and method for contaminant reduction in semiconductor device fabrication equipment components.
  27. Enicks,Darwin G.; Friedrichs,Carl E.; Brucher,Richard A., System, apparatus and method for contaminant reduction in semiconductor device fabrication equipment components.
  28. DuRoss Ronald R. (Huntsville AL) Tucker William K. (Cherry Hill NJ), Zero dead-leg gas control apparatus and method.
  29. DuRoss Ronald R. ; Tucker William K., Zero dead-leg valve structure.
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