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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0265140 (1981-05-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 25 인용 특허 : 2 |
Fine alignment of mask and wafer, using Fresnel zone plates is achieved. Light is focused on the wafer by a zone plate in the mask. Light diffracted from a zone plate on the wafer is received by a sensor. The received light is coded (analog or digital) to indicate alignment. For analog coding the wa
An alignment system wherein a first element to be aligned carries a Fresnel lens for focusing incident light to line image on a grating mark carried by a second element to be aligned therewith, the grating mark diffracting line image light to a light sensor, said Fresnel lens comprising a plurality
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