[특허]Method for manufacturing a hybrid integrated circuit device

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Method for manufacturing a hybrid integrated circuit device 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H05K-003/34 H01L-021/84
출원번호	US-0341589 (1982-01-21)
우선권정보	JP-0008758 (1981-01-23)
발명자 / 주소	Nagashima Kenji (Tokyo JPX) Matsumoto Hiroshi (Yokohama JPX) Tanaka Masataka (Kitakyushu JPX) Oodaira Hirosi (Chigasaki JPX) Iwase Nobuo (Yokosuka JPX)
출원인 / 주소	Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha (Kawasaki JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 2

초록 ▼

A method for manufacturing a hybrid integrated circuit device comprising a step of forming an Al2O3 layer on a metal substrate, a step of forming on the Al2O3 layer a resist layer having a pattern opposite to that of a copper layer which will be formed on the Al2O3 layer by a later step, a step of forming the copper layer on the Al2O3 layer using the resist layer as a mask, a step of impregnating thermosetting material into both the Al2O3 layer and the copper layer, and a step of providing at least one semiconductor element on the copper layer.

대표청구항 ▼

A method for manufacturing a hybrid integrated circuit device comprising the following steps in the stated order: a step of forming a ceramic layer on a metal substrate by flame-spraying a ceramic material onto the metal substrate; a step of forming on said ceramic layer a resist layer having a pattern opposite to that of a conductive layer which will be formed on said ceramic layer by a later step; a step of forming the conductive layer by flame-spraying a conductive material on said ceramic layer using said resist layer as a mask; a step of impregnating thermosetting insulative material into both said ceramic layer and said conductive layer; and a step of providing at least one semiconductor element on said conductive layer.

이 특허에 인용된 특허 (2)

Nishi ; Yusaku ; Fujii ; Hideo, Method of manufacturing thick-film circuit devices.
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Fairbairn Thomas E. (Westland MI), Process for spraying metallic patterns on a substrate.
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이 특허를 인용한 특허 (10)

Sato Yasuyuki (Iwai JPX) Saito Shinji (Hashima JPX) Yamauchi Hidetoshi (Anpachi JPX), Electronic circuit substrates.
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Nguyen, An Huu, Integrally formed rectifier for internal alternator regulator (IAR) style alternator.
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Mayr Kurt (Wangle ATX) Staffler Reinhard (Ehenbichl ATX) Tippelt Werner (Linz ATX) Scharizer Walter (Gallneukirchen ATX), Method for making a composite substrate for electronic semiconductor parts.
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Limb, Scott; Srinivasan, Uma, Method for patterning using phase-change material.
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Choi, Jin-Sik, Method of fabricating and repairing ceramic components for semiconductor fabrication using plasma spray process.
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Cinzori Carl (Dearborn Heights MI) Williams ; Jr. Carl (Livonia MI) Mitchell Clair E. (Detroit MI) Striker David L. (Plymouth MI), Method of making a rectifier and control module for an alternator.
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Arnett Shawn L. ; Bray Alan V. ; Bulluck John W. ; Thornton Christopher P. ; Rushing Rock A., Non-conductive coatings for underwater connector backshells.
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Celnik Jean (Paris FRX), Process for manufacturing miniaturized electronic power circuits.
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Yamazaki, Yoshihisa; Ono, Yoshiyuki; Takada, Hokuto; Sato, Katsuhiro; Imai, Akira; Hirose, Hidekazu, Semiconductor device and production method thereof.
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Baudry Hugues (Varennes-Jarcy FRX), Starting mixture for an insulating composition comprising a lead glass, silk-screening ink comprising such a mixture, an.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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