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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | C23C-015/00 |
미국특허분류(USC) | 204/192C ; 204/192P |
출원번호 | US-0309656 (1981-10-08) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 1 |
A method of depositing a high-emissivity layer on a substrate comprising RF sputter deposition of a carbide-containing target in an atmosphere of a hydrocarbon gas and a noble gas. As the carbide is deposited on the substrate the hydrocarbon gas decomposes to hydrogen and carbon. The carbon deposits on the target and substrate causing a carbide/carbon composition gradient to form on the substrate. At a sufficiently high partial pressure of hydrocarbon gas, a film of high-emissivity pure carbon will eventually form over the substrate.
A method for depositing a carbon layer on a substrate comprising: providing a chamber for RF reactive sputter deposition, providing within the chamber a substrate and a target comprised of a carbide compound, providing a noble gas and a hydrocarbon gas to the chamber, applying RF power to the target to sputter deposit the carbide compound onto the substrate and to decompose the hydrocarbon gas to hydrogen and carbon such that carbon deposits on the target and substrate whereby a layer having a carbide/carbon composition gradient develops on the substrate...