최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0362929 (1982-03-29) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 3 |
A valve (16) for use in a vacuum load lock for semiconductor processing equipment. The valve includes a base having a horizontal passage (34) formed through it for the transfer of semiconductor wafers (12) and a vertically moving valve element (50) received in a second passage (36) intersecting the
In apparatus for processing semiconductor wafers including a first chamber operable at a first pressure, a second chamber operable at a second pressure, and a conduit for the passage of semiconductor wafers from said first chamber to said second chamber; a valve operable to selectively open and clos
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.