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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0479405 (1983-03-28) |
우선권정보 | EP-0102719 (1982-03-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 6 |
A reactor comprising a plate-shaped cathode that is horizontally arranged and connected to an alternating voltage, in a ground connected casing, and gas inlet and gas outlet lines. The cathode is equipped with means for generating local magnetic fields restricted to the region of the individually su
A plasma apparatus suitable for a plurality of spaced reactive ion etching substrates comprising: a vacuum chamber, means for creating a plasma of ions reactive with said substrates and applying a potential between said plasma and said substrates, and a localized means to generate magnetic fields at
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