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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0375867 (1982-05-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 55 인용 특허 : 7 |
In the electron beam lithographic system disclosed herein, a semiconductor wafer to be exposed is carried on an air bearing puck which is, on both sides, supported or located by balanced annular regions of air pressure. These annular supporting regions surround central evacuated regions which are al
An electron beam lithographic system for the fabrication of devices having fine geometries, said system comprising: means for forming an electron beam suitable for exposing a photolithographic resist and for scanning said beam over a limited region; a movable plate-like puck including, on one side,
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