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Methylene chloride-methane sulfonic acid stripping compositions and methods for using same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C11D-007/08
  • C11D-007/52
출원번호 US-0333946 (1981-12-23)
발명자 / 주소
  • Vander Mey John E. (Stirling NJ)
출원인 / 주소
  • Allied Corporation (Morris Township, Morris County NJ 02)
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 1

초록

Methylene chloride-methane sulfonic acid compositions used in removing polymeric organic substances from inorganic substrates, such as polymeric adhesives from metal and lense glass parts and positive and negative photoresists from metallized silicon/silicon dioxide wafers, which comprise an effecti

대표청구항

A method for removing polymeric organic substances from an inorganic substrate which comprises contacting the polymeric organic substances with a stripping composition comprising from about 99 to about 60 weight percent methylene chloride and from about 1 to about 40 weight percent methane sulfonic

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Vander Mey John E. (Stirling NJ), Organic stripping compositions and method for using same.

이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Rajiv S. Agarwala ; Cynthia A. Johnson, Apparatus and method for removing a label from a surface with a chilled medium.
  2. King, Jeffrey M.; Morse, Leroy R.; Dempsey, Hoa T.; Stapleton, Erika L., En masse process for cleaning thin polarizing glass devices.
  3. Stoll, Robert W.; MacLaury, Michael R.; Wilson, Ronald H., Enhancing the selectivity of tungsten deposition on conductor and semiconductor surfaces.
  4. Nagata, Hideki; Kawai, Hideki; Mori, Toshiharu; Yuki, Hiroshi; Ishimaru, Kazuhiko, Glass-ceramic composition for recording disk substrate.
  5. Millonzi, Richard P.; Foltz, Robert S.; Petralia, Richard C.; Caccamise, Leslie W.; Hammond, Harold F.; Crump, David P.; McCumiskey, Robert E.; Williams, Edward C., Hollow cylindrical imaging member treatment process with solid carbon dioxide pellets.
  6. Li, Chang-De; Lv, Huang-Jin; Dai, Sheng-Liang, Paint stripper.
  7. Armant Richard G. (Vestal NY) Arrington Edward L. (Owego NY) Bhatt Anilkumar C. (Johnson City NY) Egleton Donald M. (Endicott NY) Ortloff Frederick M. (Binghamton NY) Sniezek Joseph J. (Endwell NY) W, Phenolic-free stripping composition and use thereof.
  8. Michelotti Francis W., Photoresist stripping compositions.
  9. Javad J. Sahbari, Photoresist stripping method.
  10. Philip G. Perry ; Rajiv S. Agarwala ; Jodie L. Morris ; Loren E. Hendrix ; Carmen W. Enos ; Gregory J. Arserio, Process for roughening a surface.
  11. Slafer, W. Dennis, Replication tools and related fabrication methods and apparatus.
  12. Slafer, W. Dennis, Roll-to-roll patterning of transparent and metallic layers.
  13. Sahbari, Javad J., Stripper.
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