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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0333946 (1981-12-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 1 |
Methylene chloride-methane sulfonic acid compositions used in removing polymeric organic substances from inorganic substrates, such as polymeric adhesives from metal and lense glass parts and positive and negative photoresists from metallized silicon/silicon dioxide wafers, which comprise an effecti
A method for removing polymeric organic substances from an inorganic substrate which comprises contacting the polymeric organic substances with a stripping composition comprising from about 99 to about 60 weight percent methylene chloride and from about 1 to about 40 weight percent methane sulfonic
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