$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Device for cathode sputtering of at least two different materials 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-015/00
출원번호 US-0448220 (1982-12-09)
우선권정보 DE-3149910 (1981-12-16)
발명자 / 주소
  • Eilers Carl-Ernst (Heidenheim DEX) Pachonik Horst (Taufkirchen DEX)
출원인 / 주소
  • Siemens Aktiengesellschaft (Berlin & Munich DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 5

초록

Device for cathode sputtering of at least two different materials, including a holder, a device for cooling the holder, a heat-conducting layer disposed on the holder, a target being connected to the holder with the heat-conducting layer disposed therebetween, the target being formed of one of the m

대표청구항

Device for cathode sputtering of at least two different materials comprising a holder, means for cooling said holder, a heat-conducting layer disposed on said holder, a target connected to said holder with said heat-conducting layer disposed therebetween, said target being exchangeably screwed to sa

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Frieser Rudolf G. (Poughkeepsie NY) Ma William H. (Wappingers Falls NY) Ozols Gunars M. (Wappingers Falls NY) Zingerman Bryant N. (Monroe NY), Cathode for etching.
  2. Cuomo Jerome J. (Lincolndale NY) Gambino Richard J. (Yorktown Heights NY) Harper James M. E. (Yorktown Heights NY), Etching by sputtering from an intermetallic target to form negative metallic ions which produce etching of a juxtaposed.
  3. Bergmann Erich (Bienne CHX) Horlaville Gerard (LaMotte-Cernex FRX), Fuel cell electrode on solid electrolyte substrate.
  4. Mizutani Tatsumi (Kokubunji JPX) Kanai Norio (Kodaira JPX) Harada Kunio (Hachioji JPX) Komatsu Hideo (Hinodemachi JPX) Iida Shinya (Tama JPX), Plasma etcher having isotropic subchamber with gas outlet for producing uniform etching.
  5. Cohen-Solal Gerard (Chatenay FR) Zozime Alain (Saint-Denis FR) Sella Claude (Meudon La Foret FR), Volatilization and deposition of a semi-conductor substance and a metallic doping impurity.

이 특허를 인용한 특허 (16)

  1. Demaray Richard E. ; Herrera Manuel, Autoclave bonding of sputtering target assembly.
  2. Fan Jia S. (Columbus OH), Cathode assembly for cathodic sputtering apparatus.
  3. Sablev Leonid P. (P. Morozova ; 3 ; kv. 3 Kharkov SUX) Stupak Rimma I. (Valtera ; 12 ; kv. 32 Kharkov SUX), Consumable cathode for electric-arc metal vaporizer.
  4. O'Connor, Michael; Haley, Kevin J.; Sur, Biswajit, Diamond heat spreading and cooling technique for integrated circuits.
  5. O'Connor,Michael; Haley,Kevin J.; Sur,Biswajit, Diamond heat spreading and cooling technique for integrated circuits.
  6. Hartsough Larry D. ; Harra David J. ; Cochran Ronald R. ; Jiang Mingwei, Internally cooled target assembly for magnetron sputtering.
  7. dos Santos Pereiro Ribeiro Carlos A. (Von Stauffenbergstrasse 12 7470 Albstadt 15 DEX), Magnetron sputtering cathode.
  8. Ivo J. Raaijmakers ; Robert S. Busacca ; John Lane, Method and apparatus for enhancing a sputtering target's lifetime.
  9. Unnam Jalaiah (Tabb VA) Clark Ronald K. (Hampton VA), Oxygen diffusion barrier coating.
  10. Nogawa Shuichi (Kyoto JPX) Kamijo Eiji (Kyoto JPX), Process for producing superconducting thin films.
  11. Fukasawa Yoshiharu (Yokohama JPX) Kawai Mituo (Yokohama JPX) Ishihara Hideo (Yokohama JPX) Umeki Takenori (Yokohama JPX) Oana Yasuhisa (Yokohama JPX), Sputtering alloy target and method of producing an alloy film.
  12. Demaray Richard E. (Portola Valley CA) Herrera Manuel (San Mateo CA) Berkstresser David E. (Los Gatos CA), Sputtering device and target with cover to hold cooling fluid.
  13. Fukasawa Yoshiharu (Tokyo JPX) Yamaguchi Satoshi (Tokyo JPX) Ishihara Hideo (Tokyo JPX), Sputtering target.
  14. Bloomquist Darrel R. (Boise ID) Natarajan Bangalore R. (San Jose CA) Opfer James E. (Palo Alto CA), Target for sputter depositing thin films.
  15. Kestigian Michael (Charlton Depot MA) Gillin John F. (Commack NY), Target source for ion beam sputter deposition.
  16. Quaderer Hans,LIX ; Weichart Juergen,LIX, Target, magnetron source with said target and process for producing said target.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로