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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0352856 (1982-02-26) |
우선권정보 | JP-0032352 (1981-03-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 1 |
The invention provides a novel method for manufacturing fused quartz glass by the decomposition and oxidation of a vaporizable silicon compound such as silicon tetrachloride in a plasma flame according to which the quartz glass rod produced contains a controlled amount of hydroxy groups with high re
A method for manufacturing fused quartz glass with a controlled amount of hydroxy groups which method comprises admixing gaseous hydrogen chloride and oxygen with the vapor of a vaporizable silicon compound to form a gaseous reactant mixture, blowing the gaseous reactant mixture into a plasma flame
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