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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0369790 (1982-04-19) |
우선권정보 | NL-0002105 (1981-04-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 4 |
An apparatus for saturating a gas with the vapor of a liquid is formed by two chambers. In the first chamber the gas is passed through the liquid which has a higher temperature than the temperature at which the gas must ultimately have been saturated on leaving the apparatus. Thereafter, the gas is
An apparatus for saturating a gas with a liquid vapor of the type wherein the gas is bubbled through the liquid characterized in that said apparatus comprises: (a) a first liquid holding chamber containing a first portion of said liquid maintained at a temperature above the saturation temperature of
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