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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0342725 (1982-01-25) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 2 |
A process to reduce SiO2 to produce Si, includes the steps: (a) reacting SiO2 with a saturated hydrocarbon at elevated temperature in a retort, to produce molten Si, and gases including SiO, CO, H2 and H2O, (b) removing such gases from the retort and separating SiO in a first stream and CO, H2O and
In the process of reducing SiO2 in a retort to produce Si, the steps that include (a) reacting SiO2 with a saturated hydrocarbon at elevated temperature between 1,500°C. and 2,000°C. in said retort, to produce molten Si, and gases including SiO, CO, H2 and H2O, (b) removing said gases from the retor
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