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System for cleaning articles 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/04
출원번호 US-0396031 (1982-07-07)
우선권정보 JP-0105521 (1981-07-08)
발명자 / 주소
  • Inoue Yosuke (Ibaraki JPX) Maki Michiyoshi (Hachioji JPX) Wanami Masahiro (Hadano JPX) Kabashima Akira (Ome JPX)
출원인 / 주소
  • Hitachi, Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 23  인용 특허 : 1

초록

Cleaning system to clean articles to remove foreign matters from surfaces of the articles. At least two treatment baths filled with respective cleaning liquids are provided. An intermediate bath is located between the adjacent two treatment baths. The intermediate bath is filled with the cleaning li

대표청구항

A system for cleaning articles to remove foreign matters from surfaces of the articles, comprising: at least two treatment baths and an intermediate bath disposed between the adjacent two treatment baths, these baths being connected in series to each other, at least one of said articles to be cleane

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. Popplewell James M. (Guilford CT) Dempsey Martin H. (Stratford CT), System for cleaning metal strip.

이 특허를 인용한 특허 (23)

  1. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  3. Speh, Ulrich; Schneider, Jens; Meuris, Marc, Apparatus for treating substrates.
  4. Bexten Daniel P., Cross flow centrifugal processor.
  5. Pender Don P. (Tempe AZ), Dynamic flood conveyor with weir.
  6. Kamikawa,Yuji; Mukuo,Shori, Liquid processing apparatus and liquid processing method.
  7. Harnden Eric F. ; Ito Daryl K., Machine and method for processing of printed circuit boards by immersion in transversely flowing liquid chemical.
  8. Moe Rolf (c/o EKC Technology ; Inc. ; P.O. Box 3703 Hayward CA 94540) Correia David (Castro Valley CA), Machine and method for stripping photoresist from wafers.
  9. Yoshizawa Takeshi (Kawasaki JPX), Mask washing apparatus for production of integrated circuit.
  10. Giles Brian A. (Honeoye Falls NY) Schwab Frederick J. (Churchville NY), Method and apparatus for cleaning semiconductor wafers.
  11. Jones Jeffrey D., Method and apparatus for cleaning thin substrates.
  12. Jones Jeffrey D., Method and apparatus for cleaning thin substrates.
  13. Steck Ricky B. (West Jordan UT), Method for rinsing, cleaning and drying silicon wafers.
  14. Bexten Daniel P., Offset rotor flat media processor.
  15. Aigo Seiichiro (3-15-13 ; Negishi ; Daito-ku Tokyo JPX), Process for washing and drying a semiconductor element.
  16. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero, Processing a surface.
  17. Bergman Eric J. ; Berner Robert W. ; Oberlitner David, Semiconductor processing using vapor mixtures.
  18. Chung Bryan C. (Flemington NJ) Ellis ; Jr. Roland (Burlington Township ; Burlington County NJ) Frazee Kenneth G. (Winter Springs FL), Semiconductor wafer cleaning method and apparatus.
  19. Hebert, Jeffrey, System and method for providing a continuous bath wetdeck process.
  20. Liu, Zhi (Lewis); Kashkoush, Ismail; Lee, Hanjoo, Systems and methods for drying a rotating substrate.
  21. 4733665 ; 19880300 ; Palmaz, Thin sheet handling system cross-reference to related applications.
  22. Levi Mark W. (Utica NY), Wafer cleaning method.
  23. Ries, Kevin Lyall, Washer.
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