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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0577833 (1984-02-07) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 27 인용 특허 : 3 |
An electron-bombardment ion source includes means defining a chamber for containing an ionizable gas together with means for introducing such gas into that chamber. Disposed therein is an anode and an electron-emissive cathode. The potential impressed between the anode and the cathode to effect elec
In an ion source which includes: means defining a chamber of conductive material for containing an ionizable gas within said chamber; an anode disposed within said chamber; an electron-emissive cathode disposed within said chamber; means for effecting electron emission at a sufficient velocity to io
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