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Electron bombardment ion sources 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-015/00
출원번호 US-0577833 (1984-02-07)
발명자 / 주소
  • Kaufman Harold R. (401 Spinnaker La. Fort Collins CO 80525) Robinson Raymond S. (2612 Bradbury Ct. Fort Collins CO 80521) Hughes William E. (7845 Heritage Dr. Annandale VA 22003)
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 3

초록

An electron-bombardment ion source includes means defining a chamber for containing an ionizable gas together with means for introducing such gas into that chamber. Disposed therein is an anode and an electron-emissive cathode. The potential impressed between the anode and the cathode to effect elec

대표청구항

In an ion source which includes: means defining a chamber of conductive material for containing an ionizable gas within said chamber; an anode disposed within said chamber; an electron-emissive cathode disposed within said chamber; means for effecting electron emission at a sufficient velocity to io

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Cuomo Jerome J. (Lincolndale NY) Harper James M. E. (Yorktown Heights NY) Kaufman Harold R. (Fort Collins CO), Compact plug connectable ion source.
  2. Keller, John H.; McKenna, Charles M., Multipole implantation-isotope separation ion beam source.
  3. Hershcovitch, Ady; Prelec, Krsto, Negative ion source with hollow cathode discharge plasma.

이 특허를 인용한 특허 (27)

  1. Watanabe Toru (Yokohama JPX), Apparatus for carrying out dry etching.
  2. McCrary Leon E. (Scituate MA) Willey Ronald R. (Melbourne FL), Broad high current ion source.
  3. Kanarov,Viktor; Hayes,Alan V.; Yevtukhov,Rustam; Reiss,Ira; Fremgen, Jr.,Roger P.; Celaru,Adrian; Williams,Kurt E.; Borges,Carlos Fernando de Mello; Druz,Boris L.; Rajan,Renga; Hegde,Hari, Charged particle source and operation thereof.
  4. Williamson Weldon S. (Malibu CA), Compact penning-discharge plasma source.
  5. Okano Haruo (Yokohama JPX) Yamazaki Takashi (Kawasaki JPX) Horiike Yasuhiro (Tokyo JPX) Horie Hiromichi (Yokosuka JPX), Dry etching apparatus using reactive ions.
  6. Springer Robert W. (Los Alamos NM), Flow-through ion beam source.
  7. Kaufman, Harold R.; Kahn, James R.; Robinson, Raymond S.; Zhurin, Viacheslav V., Hall-current ion source.
  8. Brown Ian G. (1088 Woodside Rd. Berkeley CA 94708) MacGill Robert A. (645 Kern St. Richmond CA 94805) Galvin James E. (2 Commodore Dr. #276 Emeryville CA 94608), High current ion source.
  9. Fujisawa Tatsuya,JPX ; Ooishi Shotaro,JPX ; Oonuki Hisao,JPX ; Hashimoto Isao,JPX, Ion beam processing apparatus.
  10. Horsky,Thomas N.; Cohen,Brian C.; Krull,Wade A.; Sacco, Jr.,George P., Ion implantation system and control method.
  11. Proudfoot Gary (Wantage GB2), Ion source.
  12. Chu, Paul K.; Tang, Deli; Pu, Shihao; Tong, Honghui; Chen, Qingchuan, Ion source with upstream inner magnetic pole piece.
  13. Godyak, Valery, Ion-beam source.
  14. Bertrand Michel J.,CAX ; Faubert Denis,CAX ; Peraldi Olivier,CAX ; L'Heureux Andre,CAX, Metastable atom bombardment source.
  15. Bertrand, Michel J.; Peraldi, Olivier, Metastable atom bombardment source.
  16. Case, Thomas A.; Star-Lack, Josh; Wilfley, Brian Patrick, Method and apparatus for generation of a uniform-profile particle beam.
  17. Case, Thomas A; Star-Lack, Josh; Wilfley, Brian Patrick, Method and apparatus for generation of a uniform-profile particle beam.
  18. Mautz Karl Emerson, Method for reducing particles deposited onto a semiconductor wafer during plasma processing.
  19. Naoe Masahiko (Tokyo JPX) Ishibashi Shozo (Hino JPX), Method of ion beam generation and an apparatus based on such method.
  20. W책hlin,Erik Karl Kristian, Multi-grid ion beam source for generating a highly collimated ion beam.
  21. McGeoch Malcolm W. (Brookline MA), Plasma cathode.
  22. Williamson Weldon S. (Malibu CA), Plasma generator having rf driven cathode.
  23. Manley Barry W., Plasma processing system utilizing combined anode/ ion source.
  24. Wessel Frank J. (Santa Monica CA) Hancock Donald J. (Thousand Oaks CA), Power-processing unit.
  25. Baldwin, David A.; Ciorneiu, Boris; Kaufman, Harold R., Pulsed operation of hall-current ion sources.
  26. Le Jeune Claude (Gif Sur Yvette FRX), Source of ions of the triode type with a single high frequency exitation ionization chamber and magnetic confinement of.
  27. Burtner, David Matthew; Siegfried, Daniel E.; Blacker, Richard; Alexeyev, Valery; Keem, John; Zelenkov, Vsevolod; Krivoruchko, Mark, Sputtered contamination shielding for an ion source.
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