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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0327627 (1981-12-04) |
우선권정보 | JP-0177281 (1980-12-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 5 |
A pattern generator in which a workpiece to be machined into a desired pattern shape is held in vacuum and is irradiated with a laser beam condensed to be fine, while scanning the laser beam so as to depict the desired pattern shape, whereby the workpiece is directly machined in conformity with the
A pattern generator comprising a laser source, means to modulate a laser beam emitted from said laser source and to deflect it in a desired direction, means to focus the laser beam and to project it onto a workpiece to subject the workpiece to machining by the laser beam, a sample stage on which the
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