$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Metal film imaging structure 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03C-001/60
  • G03C-001/90
  • G03F-007/26
출원번호 US-0463295 (1983-02-02)
발명자 / 주소
  • Busman Stanley C. (Oakdale MN) Chang John C. (New Brighton MN)
출원인 / 주소
  • Minnesota Mining and Manufacturing Company (St. Paul MN 02)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 9

초록

An image-forming laminate is formed by the combination of a thin, frangible light opaque material on top of a photosensitive layer which changes its surfactant properties when irradiated. The photosensitive layer according to the present invention comprises a film-forming polymeric binder, a photose

대표청구항

A photosensitive, imageable article comprising: (a) a substrate, (b) a frangible, thin, light-opaque layer strippably adhered to said substrate, and (c) a photosensitive layer comprising in admixture a film forming polymeric binder, between 0.2 and 10% by weight of the dry photosensitive layer of at

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Moriya Takeo (Kawagoe JPX) Yamagata Toshio (Urawa JPX), Dry system image producing element.
  2. Berggren William R. (Woodbury MN) Brownley Shelby J. (St. Paul MN), Imageable, composite-dry transfer sheet and process of using same.
  3. Eian Gilbert L. (White Bear Lake MN) Trend John E. (Saint Paul MN), Imaging process and article employing photolabile, blocked surfactant.
  4. Sanders James F. (Hudson WI), Light-sensitive development-free driographic printing plate.
  5. Kido Keishiro (Asaka JPX) Wada Minoru (Asaka JPX) Ikeda Tomoaki (Asaka JPX), Method for forming images.
  6. Cohen Abraham B. (Springfield NJ) Fan Roxy N. (East Brunswick NJ), Negative-working multilayer photosensitive tonable element.
  7. Inoue Eiichi (Tokyo JPX) Nakayama Takao (Yokohama JPX), Peel-apart-developable light-sensitive materials and image-forming method using the same.
  8. Kitajima Masao (Asaka JPX) Tachikawa Hiromichi (Asaka JPX) Shinozaki Fumiaki (Asaka JPX) Ikeda Tomoaki (Asaka JPX), Process for forming an image.
  9. Perrington ; Kenneth J. ; Taylor ; Phillip A. ; Vogelgesang ; Peter J., Transfer letter system.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Pellerite, Mark J.; Pocius, Alphonsus V.; Bommarito, G. Marco, Adhesive compositions including self-assembling molecules, adhesives, articles, and methods.
  2. Chowdhary, Rubinah K.; Dolphin, David, Drug delivery systems for photodynamic therapy.
  3. Chou Hsin-hsin, Dry peel-apart imaging or proofing system.
  4. Chou Hsin-hsin, Dry peel-apart imaging process.
  5. Deng, Tao; Arias, Francisco; Ismagilov, Rustem F.; Kenis, Paul J. A.; Whitesides, George M., Fabrication of metallic microstructures via exposure of photosensitive composition.
  6. Deng,Tao; Arias,Francisco; Ismagilov,Rustem F.; Kenis,Paul J. A.; Whitesides,George M., Fabrication of metallic microstructures via exposure of photosensitive composition.
  7. Deng, Tao; Arias, Francisco; Ismagilov, Rustem F.; Kenis, Paul J. A.; Whitesides, George M., Fabrication of metallic microstructures via exposure of photosensitive compostion.
  8. Cline Douglas ; Supples Thomas ; Rosenberger George, Laser etching of electroluminescent lamp electrode structures, and electroluminescent lamps produced thereby.
  9. Shimokawa Kiyofumi (Hiroshima JPX), Laser marking method.
  10. Van Damme Marc,BEX ; Vermeersch Joan,BEX ; Schacht Etienne,BEX ; Vansteenkiste Stefan,BEX, Method for producing lithographic plates with imaging elements comprising a photosensitive acid precursor.
  11. Liao, Chien-Ko; Chiu, Chin-Tien; Chien, Jack Chang; Yu, Cheemen; Takiar, Hem, Method of fabricating a semiconductor die having a redistribution layer.
  12. Pellerite, Mark J.; Pocius, Alphonsus V.; Bommarito, G. Marco, Method of modifying a surface molecules, adhesives, articles, and methods.
  13. von Trebra Robert J. (Flemington NJ) Smith Gerald A. (Easton PA) Hensel Roy E. (Cranbury NJ) Barton ; deceased Oliver A. (late of Florham Park NJ by Marjorie Barton ; executrix ), Partially translucent white film having metallized surface.
  14. Teng, Gary Ganghui; Thackeray, James W.; Cameron, James F., Photoresist compositions.
  15. Wilczak Wojciech A. (Jersey City NJ), Positive working, peel developable, color proofing system having two photosensitive layers.
  16. Maerz Karin (Mainz DEX) Gramm Ine (Wiesbaden DEX) Hilger Manfred (Konz DEX) Mohr Dieter (Budenheim DEX) Platzer Stephan J. W. (Eltville-Erbach DEX), Process for the production of a multicolored image.
  17. Takeda, Takanobu; Watanabe, Osamu; Watanabe, Satoshi; Ohsawa, Youichi; Koitabashi, Ryuji; Watanabe, Tamotsu, Resist composition and patterning process.
  18. Liao, Chien-Ko; Chiu, Chin-Tien; Chien, Jack Chang; Yu, Cheemen; Takiar, Hem, Semiconductor die having a distribution layer.
  19. Liao, Chien-Ko; Chiu, Chin-Tien; Chien, Jack Chang; Yu, Cheemen; Takiar, Hem, Semiconductor die having a redistribution layer.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로