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Photosensitive laminate

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03C-001/52
  • G03C-001/90
  • G03F-007/26
출원번호 US-0253865 (1972-05-16)
발명자 / 주소
  • Christensen Carl W. (Beverly MA) Isaacson Calvin (Beverly MA)
출원인 / 주소
  • Shipley Company Inc. (Newton MA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 0

초록

This invention relates to a light-sensitive laminate comprising a light-sensitive layer of photoresist, a support therefor, and an intermediate protective layer preferably of a light-transmitting material disposed between said photoresist layer and said support. In use, the photoresist layer of the

대표청구항

A composite consisting of a light sensitive laminate adhered to a substrate, said light sensitive laminate comprising an unexposed and undeveloped light-sensitive layer of a photoresist material, a support layer therefore, and an intermediate protective layer between said light-sensitive layer and s

이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Natter, Marc David, Actinic activation article shaping system.
  2. Sakai Hiroaki (Fukuoka JPX), Apparatus for peeling the interlayer of a two-sided adhesive tape.
  3. Axon Frederick J. (Manchester CA GB2) Briguglio James J. (Newport Beach CA) Candore Amedeo (Bodio Lomnago ITX) Lightfoot Lawson (Chesire CA GB2) Crooks Clancy P. (Cypress CA) Roos Leo (Laguna Beach C, Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like.
  4. Komatsu Toshifumi ; Gybin Alexander S. ; Johnson Kyle ; MacLean Dylan E., Integral membrane layer formed from a photosensitive layer in an imageable photoresist laminate.
  5. Pentak William F. (Houston TX) Burkes Dewey L. (Pasadena TX), Method for creating a design in relief in a hard smooth substrate and apparatus for use in the method.
  6. Suzuki Tsutomu (Toyohashi JPX) Suzuki Ikuo (Toyohashi JPX), Method for engraving and/or etching with image-carrying mask and photo-sensitive laminate film for use in making the mas.
  7. Goss William Krebs ; Garrett Everett Eugene, Method for manufacturing a printing plate.
  8. Roos Leo (Laguna Beach CA) Axon Fredrick J. (Worsley CA GB2) Briguglio James J. (Newport Beach CA), Method of forming a conformable mask on a printed circuit board.
  9. Choi John H. (Sayre PA), Multi-layer peel-apart photosensitive reproduction element containing a photorelease layer.
  10. Barton Oliver A. (Florham Park NJ) Wright James D. (Basking Ridge NJ), Photopolymerizable dual transfer negative working color proofing system.
  11. Tara Vinai M. (Anaheim CA), Photosensitive laminate having dual intermediate layers.
  12. Choi John H. (Sayre PA), Process for preparing a precolored image using photosensitive reproduction element containing a photorelease layer.
  13. Hasegawa, Kiyoshi, Semiconductor chip installing tape, semiconductor device and a method for fabricating thereof.
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