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Raw material supply device 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03P-037/00
출원번호 US-0577419 (1984-02-06)
발명자 / 주소
  • Miyajiri, Tetsuo
  • Habasaki, Toshimi
  • Yokota, Hiroshi
  • Tsurita, Tamio
  • Nakahara, Motohiro
출원인 / 주소
  • Sumitomo Electric Industries, Ltd., Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation
대리인 / 주소
    Sughrue, Mion, Zinn, Macpeak, and Seas
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 2

초록

A device is disclosed for supplying a glass raw material gas in the form of the mixed gas consisting of the glass raw material gas and the carrier gas to a vapor deposition device for producing a preform of an optical fiber, the supply device including a secondary raw material container having a pre

대표청구항

1. A raw material supply device for supplying a glass-forming raw material gas in the form of a mixed gas consisting of said glass-forming raw material gas and a carrier gas to a vapor deposition device for producing a preform of an optical fiber, the supply device comprising: a pressurized main raw

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Purr Horst (Tennenbronn DEX) Kistler Manfred (Eisenbach DEX) Mller Rolf (St. Georgen DEX), Electrically operated device, especially duplicating device, with a receptacle to accommodate fluid for the chemical tre.
  2. Blankenship Michael G. (Corning NY), Reactant delivery system method.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Scholz,Christoph, Apparatus and process for refilling a bubbler.
  2. Sielaff Gnter (Bensheim DEX) Joseph Frank (Gernsheim DEX) Harder Norbert (Aschaffenburg DEX), Apparatus for producing a gas mixture by the saturation method.
  3. Fair David L. (Rockford IL), Bubbler container automatic refill system.
  4. Fair David L. (Rockford IL), Bubbler container automatic refill system.
  5. Lipisko Bruce A. (Carlsbad CA) Schumacher John C. (Rancho Santa Fe CA) Howard Richard E. (Escondido CA) Randtke Peter T. (San Marcos CA) Sandu Adrian (La Mesa CA) Fletcher Robert E. (Vista CA) Graf H, Chemical refill system.
  6. Woelk, Egbert; DiCarlo, Ronald L.; Shenai-Khatkhate, Deodatta Vinayak, Delivery device, methods of manufacture thereof and articles comprising the same.
  7. Pozniak Peter M. ; Trang Duy Khanh ; Roberts Benjamin R., Dispensing system and method for dispensing an aqueous solution.
  8. Takeshita, Kazuhiro; Nagashima, Shinji; Mizutani, Yoji; Katayama, Kyoshige, Gas treatment apparatus.
  9. Stauffer Craig M. (3066 Scott Blvd. Santa Clara CA 95054), Integrated delivery system for chemical vapor from non-gaseous sources for semiconductor processing.
  10. Yamagata,Yutaka; Ozaki,Tsunehiko; Morozov,Victor; Inoue,Kozo, Liquid treating equipment including a storage vessel and a discharge vessel.
  11. Yamazaki Masahiro (Yokohama JPX) Iizuka Shigeru (Yokohama JPX) Kamiya Shigemitsu (Kawasaki JPX) Oka Yoshiro (Yokohama JPX) Fujino Katsuhiro (Yokohama JPX), Method and apparatus for feeding drug liquid from hermetic returnable can.
  12. Woelk, Egbert; DiCarlo, Jr., Ronald L., Method for constant concentration evaporation and a device using the same.
  13. Sato Kazuo (Tokyo JPX), Method for supplying metal organic gas and an apparatus for realizing same.
  14. Xu, Mindi; Wang, Hwa-Chi; Dulphy, Herve E., Pressure vessel systems and methods for dispensing liquid chemical compositions.
  15. Xu, Mindi; Wang, Hwa-Chi; Dulphy, Herve E., Pressure vessel systems and methods for dispensing liquid chemical compositions.
  16. Moriyama, Masashi; Yamahira, Yutaka; Matsuyama, Yuji, Processing liquid supply unit.
  17. Kang, Gu-Young, Raw material providing device for chemical vapor deposition process.
  18. Tsuchiya Ichiro (Kanagawa JPX) Yokota Hiroshi (Kanagawa JPX) Danzuka Toshio (Kanagawa JPX) Minami Hideki (Kanagawa JPX), Raw material supplying device and process.
  19. Newton, Christopher William, System for accurately weighing solids and control mechanism for same.
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