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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0609163 (1984-05-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 17 인용 특허 : 9 |
A negative working resist composition and medium for microlithographic recording comprises a vinyl polymer having aromatic quaternized nitrogen-containing pendant groups. The resist undergoes a transformation from high to low solubility in polar solvents such as water or low molecular weight alcohol
1. A method of microlithographic recording comprising the steps of (a) applying a thin film of cationic vinyl polymer resist material to a substrate to form a coated substrate, said cationic vinyl polymer consisting of a repeating unit ##STR## wherein Ar + is selected from the group consisting o
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