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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0424503 (1982-09-27) |
우선권정보 | JP-0159281 (1981-10-05); JP-0148583 (1982-08-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 27 인용 특허 : 8 |
An automatic plasma processing device having a substantially vertically disposed plasma chamber in which a plurality of semiconductor wafers can be simultaneously processed with plasma. The automatic plasma processing device comprises a container cassette adapted to contain a plurality of wafers the
1. An automatic plasma processing device, comprising: at least one cassette member adapted to contain a plurality of semiconductor wafers therein; feeding means for taking out said wafers one by one from said cassette member and for feeding the same; a holding member operable for receiving said
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