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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0763079 (1985-08-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 23 인용 특허 : 2 |
An automatic sputtering apparatus for coating semiconductor wafers uses shuttle wafer carriers and elevators to handle wafers within the apparatus. The wafer carrier has a hole in the center. One side of the wafer carrier is opened, thereby forming a throat in the shuttle wafer carrier in the form o
1. A workpiece handling apparatus, comprising: an elevator pedestal having top and bottom; an elongated first vertical support member having top and bottom ends, said elevator pedestal being attached to said top end of said first vertical support member at said bottom of said elevator pedestal;
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