[특허]Gas supplying apparatus

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Gas supplying apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B01F-003/04
출원번호	US-0677588 (1984-12-03)
우선권정보	JP-0226750 (1983-12-02)
발명자 / 주소	Takimoto Hiroaki (Yokohama JPX) Miyajiri Tetsuo (Yokohama JPX) Yoshida Kiminobu (Yokohama JPX) Turita Tamio (Yokohama JPX)
출원인 / 주소	Sumitomo Electric Industries, Ltd. (Osaka JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 3

초록 ▼

A gas supply apparatus for supplying gaseous raw material of an article to a processing apparatus, including at least one main vessel for storing liquid raw material of the article and supplying the gaseous raw material to the processing apparatus, an auxiliary vessel for storing liquid raw material replenishment for the liquid raw material, a main pipe for delivering the liquid raw material replenishment to the main vessel, a return pipe branched form the main pipe, first and second control valves, and a feed device for feeding, through the main pipe, the liquid raw material replenishment to the main vessel.

대표청구항 ▼

A gas supplying apparatus for supplying gaseous raw material of an article to a processing apparatus, comprising: at least one main vessel for storing liquid raw material of said article, which generates said gaseous raw material constituted by vapor of said liquid raw material mixed with carrier gas drawn into said main vessel so as to supply said gaseous raw material to said processing apparatus; an auxiliary vessel for storing liquid raw material replenishment for said liquid raw material; a main pipe for delivering to said main vessel said liquid raw material replenishment stored in said auxiliary vessel, which has an inlet end and an outlet end; said inlet end being dipped in said liquid raw material replenishment in said auxiliary vessel, while said outlet end is disposed in said main vessel; a return pipe having a distal end, which is branched, in the vicinity of said outlet end, from a branch portion of said main pipe such that said distal end is disposed in said auxiliary vessel and above a liquid level of said liquid raw material replenishment in said auxiliary vessel; a first control valve which is provided in said return pipe; a second control valve which is provided, between said outlet end and said branch portion, in said main pipe; and a feed means for feeding, through said main pipe, to said main vessel said liquid raw material replenishment in said auxiliary vessel.

이 특허에 인용된 특허 (3)

Garrard Bruce (126 Montgomery Ferry Dr. NE. Atlanta GA 30309), Gas and liquid admixing system.
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Partus Fred P. (Cobbs County GA), Vapor delivery control system and method.
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Partus Fred P. (Cobb County GA), Vapor delivery system and method of maintaining a constant level of liquid therein.
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이 특허를 인용한 특허 (6)

Sielaff Gnter (Bensheim DEX) Joseph Frank (Gernsheim DEX) Harder Norbert (Aschaffenburg DEX), Apparatus for producing a gas mixture by the saturation method.
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Lipisko Bruce A. (Carlsbad CA) Schumacher John C. (Rancho Santa Fe CA) Howard Richard E. (Escondido CA) Randtke Peter T. (San Marcos CA) Sandu Adrian (La Mesa CA) Fletcher Robert E. (Vista CA) Graf H, Chemical refill system.
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Takeshita, Kazuhiro; Nagashima, Shinji; Mizutani, Yoji; Katayama, Kyoshige, Gas treatment apparatus.
상세보기
Durukan, Ilker; Rasheed, Muhammad M.; Ma, Paul F., Methods and apparatus for liquid chemical delivery.
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Reynolds Warren D. (3455 Spanish Way Carlsbad CA 92008), Process and apparatus for vapor transfer of very high purity liquids at high dilution.
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Moriyama, Masashi; Yamahira, Yutaka; Matsuyama, Yuji, Processing liquid supply unit.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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