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Automatic lens focus with respect to the surface of a workpiece 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01C-003/08
출원번호 US-0563655 (1983-12-20)
우선권정보 JP-0228703 (1982-12-28)
발명자 / 주소
  • Iijima Nobuo (Tama JPX)
출원인 / 주소
  • Fujitsu Limited (Kawasaki JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 2

초록

An automatic focus control device for adjusting the height of a lens above a surface of a workpiece used in an exposure apparatus for exposing the sample with a light beam including a first light emitting device for emitting a first light ray to a sample; a second light emitting device for emitting

대표청구항

An automatic focus control device used in an exposure apparatus comprising: a first light emitting means for emitting a first light ray to a workpiece; a second light emitting means for emitting a second light ray to said workpiece; a first light detecting means for detecting said second light ray r

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Hosoe Kazuya (Machida JPX) Niwa Yukichi (Yokohama JPX) Tsunekawa Tokuichi (Yokohama JPX) Owada Mitsutoshi (Yokohama JPX) Asano Noriyuki (Kawasaki JPX) Masunaga Makoto (Tokyo JPX), Device for focus detection or distance detection.
  2. Bouwhuis Gijsbertus (Eindhoven NLX) Hazerdonk Teunis J. (Eindhoven NLX), Opto-electronic focussing error detection arrangement.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Merryman Jerry D. (Dallas TX) Porter Vernon R. (Plano TX), Autofocus system for scanning laser inspector or writer.
  2. van der Werf Jan E. (Eindhoven NLX) Biesterbos Johannes W. M. (Eindhoven NLX), Optical imaging arrangement comprising an opto-electronic focussing-error detection system.
  3. Ito Yuji (Chigasaki JPX), Particle analyzing apparatus.
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