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Modular V-CVD diffusion furnace 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-011/00
출원번호 US-0757920 (1985-07-22)
발명자 / 주소
  • Sarkozy Robert F. (Westford MA)
출원인 / 주소
  • BTU Engineering Corporation (North Billerica MA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 20  인용 특허 : 9

초록

A novel modular V-CVD diffusion furnace includes a cylindrical quartz diffusion tube having integral end flanges, a first metallic sealing plate having gas ports removably fastened to one flange, a second metallic sealing plate having a plurality of precisely aligned gas injection tube receiving ape

대표청구항

A modular vacuum chemical vapor deposition CVD diffusion furnace, comprising: a cylindrical diffusion tube having open ends and defining a cylindrical reaction chamber having an operative region along which CVD takes place; a boat loader; means for removably fastening said boat loader in air-tight s

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Inaniwa ; Keizo ; Ryugo ; Noboru, Apparatus for diffusion into semiconductor wafers.
  2. Jenkins George M. (Dunrobin CAX), Coating of semiconductor wafers and apparatus therefor.
  3. Shibamata Yoshiyuki (Machida JPX) Onodera Hideo (Kawasaki JPX) Kiriseko Tadashi (Kanagawa JPX), Method and apparatus for heating semiconductor wafers.
  4. Furumura Yuji (Kawasaki JPX) Nishizawa Takeshi (Kawasaki JPX), Method and apparatus for vapor phase deposition.
  5. Jolly Stuart T. (Yardley PA), Method of depositing layers of semi-insulating gallium arsenide.
  6. Engle ; Jr. George M. (San Jose CA), Plasma enhanced chemical vapor processing of semiconductive wafers.
  7. Toole Monte M. (Mill Valley CA) Champagne Robert B. (Mountain View CA), Silicon wafer steam oxidizing apparatus.
  8. Reisman Arnold (Yorktown Heights NY) Berkenblit Melvin (Yorktown Heights NY), Single gas flow elevated pressure reactor.
  9. Sadowski Joseph P. (Coppell TX) Lightfoot Alan E. (Dallas TX) Kowalski Jeffrey M. (Coppell TX), Vertical semiconductor furnace.

이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. Reynolds, Reese; Lucas, Jr., H. William; Johnson, Tyke, Apparatus for manufacture of solar cells.
  2. Aldridge Robert E. (Beaverton OR) Beattie Bruce E. (Portland OR), Cantilever and cold zone assembly for loading and unloading an oven.
  3. Buschbeck, Martin; Scholler, Johann, Chamber for chemical vapor deposition.
  4. Fiala Robert ; Zeigler Dary ; Welson Darren ; Del Real Jose ; Rudolph James W., Combination CVI/CVD and heat treat susceptor lid.
  5. Simson Morris (Framingham MA) Fabricius John H. (Westford MA) Browne Ronnie (Derry NH) Waugh Arthur (Winchester MA) Sarkozy Robert F. (Westford MA) Lai Chiu K. S. (Wellesley MA), Cross-flow diffusion furnace.
  6. Bay Steven T. (San Jose CA) Prince Dan (Irvine CA), Distributed source assembly.
  7. Beatty,James Hoyt; Whitesell,Chris, Hot liner insertion/removal fixture.
  8. Dennis T. Garn ; Jerry S. Lee ; James W. Rudolph, Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
  9. Fiala, Robert; Rudolph, James W.; Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
  10. Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S.; Rudolph, James W., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
  11. James Warren Rudolph, Method and apparatus for inhibiting infiltration of a reactive gas into porous refractory insulation.
  12. Roger A. Ross ; Patrick C. Trujillo ; Robert Fiala, Method and apparatus for pressure measurement in a CVI/CVD furnace.
  13. Rudolph James Warren, Sealed reactant gas inlet for a CVI/CVD furnace.
  14. Jeon Jae-sun,KRX ; Kim Won-yeong,KRX ; Yang Yun-mo,KRX ; Chae Seung-ki,KRX, Semiconductor device manufacturing apparatus employing vacuum system.
  15. Miyashita Naoto (Kawasaki JPX) Takahashi Koichi (Kawasaki JPX) Kinoshita Hiroshi (Yokohama JPX), Semiconductor manufacturing apparatus including a temperature control mechanism.
  16. Miyashita Naoto,JPX ; Takahashi Koichi,JPX ; Kinoshita Hiroshi,JPX, Semiconductor manufacturing apparatus including temperature control mechanism.
  17. Carpenter,Craig M.; Dando,Ross S.; Campbell,Philip H.; Mardian,Allen P.; Sandhu,Gurtej S., Semiconductor substrate deposition processor chamber liner apparatus.
  18. Sakai, Masanori; Takebayashi, Yuji; Kato, Tsutomu; Sasaki, Shinya; Yamazaki, Hirohisa, Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device.
  19. Sakai, Masanori; Takebayashi, Yuji; Kato, Tsutomu; Sasaki, Shinya; Yamazaki, Hirohisa, Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device.
  20. Ide Shigeaki,JPX, Vertical heat treatment apparatus.
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