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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0762606 (1985-08-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 23 인용 특허 : 2 |
An automatic sputtering apparatus for coating semiconductor wafers uses shuttle wafer carriers and elevators to handle wafers within the apparatus. The wafer carrier has a hole in the center. One side of the wafer carrier is opened, thereby forming a throat in the shuttle wafer carrier in the form o
An apparatus for processing workpieces, said apparatus comprising: wall means forming a loading chamber, a processing chamber having a plurality of processing stations therein, and an unloading chamber; a shuttle workpiece carrier in said processing chamber; means for conveying a workpiece in said l
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