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Workpiece lifting and holding apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-005/02
출원번호 US-0762606 (1985-08-05)
발명자 / 주소
  • Garrett Charles B. (San Jose CA)
출원인 / 주소
  • Varian Associates, Inc. (Palo Alto CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 23  인용 특허 : 2

초록

An automatic sputtering apparatus for coating semiconductor wafers uses shuttle wafer carriers and elevators to handle wafers within the apparatus. The wafer carrier has a hole in the center. One side of the wafer carrier is opened, thereby forming a throat in the shuttle wafer carrier in the form o

대표청구항

An apparatus for processing workpieces, said apparatus comprising: wall means forming a loading chamber, a processing chamber having a plurality of processing stations therein, and an unloading chamber; a shuttle workpiece carrier in said processing chamber; means for conveying a workpiece in said l

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Giammanco Rosario P. (Gloucester MA), Article delivery and transport apparatus for evacuated processing equipment.
  2. Takahashi Nobuyuki (Fuchu JPX), Processing apparatus comprising a cassette member temporarily swingable to vertically hold a plurality of substrates.

이 특허를 인용한 특허 (23)

  1. Conboy Michael R. ; Shedd Danny C. ; Coss ; Jr. Elfido, Automated material handling system for a manufacturing facility divided into separate fabrication areas.
  2. Conboy,Michael R.; Shedd,Danny C.; Coss, Jr.,Elfido, Automated material handling system for a manufacturing facility divided into separate fabrication areas.
  3. Kosmowski Wojciech B. (26392 Calle Roberto San Juan Capistrano CA 92675) Capaldi Sabatino (30215 Via Victoria Rancho Palos Verdes CA 90274), Automated work-piece handling system for machine tool.
  4. Roman Schertler AT, Chamber, at least for the transport of workpieces, a chamber combination, a vacuum treatment facility as well as a transport method.
  5. Goff Gerald L. (Austin TX) Conboy Michael R. (Buda TX), Container-less transfer of semiconductor wafers through a barrier between fabrication areas.
  6. Schwartz Vladimir ; Bierwagen Klaus, Cross flow metalizing of compact discs.
  7. Ogliari, Vincenzo; Pozzetti, Vittorio; Preti, Franco, Device and method for handling substrates by means of a self-leveling vacuum system in epitaxial induction.
  8. Muffler, Pirmin, Device for machining a substrate and a method for this purpose.
  9. Muffler, Pirmin, Device for machining a substrate and a method for this purpose.
  10. Ken Lee ; Ke Ling Lee ; Mingwei Jiang ; Robert M. Martinson, Horizontal sputtering system.
  11. Ivo J. Raaijmakers, Multi-position load lock chamber.
  12. Baccini, Andrea; Galiazzo, Marco; Andreola, Daniele; De Santi, Luigi; Zorzi, Christian; Vercesi, Tommaso, Next generation screen printing system.
  13. Okamura Nobuyuki,JPX ; Yamagami Atsushi,JPX ; Ohmi Tadahiro,JPX ; Goto Haruhiro Harry,JPX ; Shibata Tadashi,JPX, Plasma processing apparatus.
  14. Barker Stephen F. (Pomona CA) Fechtner Harold F. (Claremont CA), Sample loading apparatus.
  15. Kondo Ichiharu,JPX ; Yoneyama Takao,JPX ; Yamaoka Masami,JPX ; Takenaka Osamu,JPX, Sputter-deposited nickel layer.
  16. Tateishi Hideki (Yokohama JPX) Saito Hiroshi (Fujisawa JPX) Sasaki Shinji (Yokohama JPX) Horiuchi Mitsuaki (Hachioji JPX), Sputtering process and an apparatus for carrying out the same.
  17. Klein, Martin P.; Felsenthal, David; Sferlazzo, Piero, Substrate processing pallet and related substrate processing method and machine.
  18. Klein, Martin P.; Felsenthal, David; Sferlazzo, Piero, Substrate processing pallet and related substrate processing method and machine.
  19. Lee Ke Ling ; Mazur Mikhail ; Lee Ken ; Martinson Robert M., System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system.
  20. Ke Ling Lee ; Mikhail Mazur ; Ken Lee ; Robert M. Martinson, System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system.
  21. Begin Robert George ; Clarke Peter J., System for providing a controlled deposition on wafers.
  22. Grigoriou, Niki Nicolas; Nielsen, Ole, Transport and storage system for servicing of a number of treatment and care areas in a hospital and method for operation hereof.
  23. Klein,Martin P.; Keigler,Arthur; Felsenthal,David, Ultra-thin wafer handling system.
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