최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0333295 (1981-12-22) |
우선권정보 | JP-0024329 (1981-02-23) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 45 인용 특허 : 4 |
A position detecting system suitable for the position control of the surface of a workpiece mounted in an electron beam exposure system is disclosed which includes an electrically-driven light source, a first optical system for focusing a light beam from the light source on a workpiece, a position-c
A system for detecting a height position of a workpiece suitable for use in an electron beam exposure apparatus which includes an electron beam source for forming an electron beam having a depth of focus in an evacuatable chamber and a movable table for supporting said workpiece to irradiate said wo
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.