[특허]Process for producing light sensitive lithographic plate requiring no dampening solution

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Process for producing light sensitive lithographic plate requiring no dampening solution 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-007/02 G03C-005/00
출원번호	US-0710892 (1985-03-12)
우선권정보	JP-0046873 (1984-03-12)
발명자 / 주소	Takahashi Hiroshi (Kanagawa JPX) Tamaki Hiroyuki (Kanagawa JPX) Ohishi Chikashi (Kanagawa JPX) Shiba Keisuke (Kanagawa JPX)
출원인 / 주소	Fuji Photo Film Co., Ltd. (Kanagawa JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 4

초록 ▼

A process for producing a light-sensitive lithographic plate requiring no dampening solution comprising (1) carrying out corona discharge treatment on the surface of a silicone rubber layer of a light-sensitive lithographic plate requiring no dampening solution wherein the silicone rubber layer is the top layer, (2) spraying a solution or dispersion containing a non-volatile solid component on said silicone rubber layer, and (3) drying to provide fine projection patterns on said silicone rubber layer.

대표청구항 ▼

이 특허에 인용된 특허 (4)

Abe Kohki (Fuji JPX) Tsuchiya Hiroyuki (Fuji JPX) Mizuno Masayoshi (Fuji JPX), Dry planographic plate with light sensitive silicone composition.
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Fujita Takashi (Kusatsu JPX) Iwamoto Masao (Ohtsu JPX), Dry planographic printing plate.
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Kojima Hiroshi (Hino JPX) Ito Kunio (Hino JPX) Akiyama Masami (Hino JPX) Tanaka Takeshi (Hino JPX), Process for preparing photosensitive plates for printing.
상세보기
Kojima Hiroshi (Hino JPX) Ito Kunio (Hino JPX) Akiyama Masami (Hino JPX) Tanaka Takeshi (Hino JPX), Process for the production of photosensitive plates for printing.
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이 특허를 인용한 특허 (3)

Katoh Toshihiro,JPX ; Kuriyama Takao,JPX ; Takei Tatsuya,JPX ; Kawai Takashi,JPX ; Murakami Hiroshi,JPX ; Munemoto Eiji,JPX ; Ohta Norio,JPX ; Shimada Koji,JPX, Display substrate, conductor, and insulator.
상세보기
Hiruma Toshihiko (Shizuoka JPX) Takahashi Hiroshi (Shizuoka JPX) Kato Norihiko (Shizuoka JPX), Photosensitive lithographic plate using no dampening water.
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Park, Se-Hyung; Kim, Byoung-Kee; Park, Jong-Min; Baek, Seong-In, Positive type dry film photoresist and composition for preparing the same.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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