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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0596560 (1984-04-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 2 |
A conveyor mechanism suitable for a thin plate, especially for uniformly drying a photoresist coated on a wafer without smearing its rear surface with the photoresist has at least four grooves formed laterally in the upper surface of a table, two of the grooves extending from one side of the table a
1. A conveyor mechanism for a thin plate, comprising: a table defining at least four grooves in the upper surface thereof, two of said grooves extending substantially perpendicular to the direction of conveyance of the thin plate from one side of the table to peripheral parts of an area on which
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