$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Disk carrier 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-015/00
출원번호 US-0642853 (1984-08-21)
발명자 / 주소
  • Allen Ronald (San Jose CA) Chen Tu (Saratoga CA)
출원인 / 주소
  • Komag, Inc. (Milpitas CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 7

초록

A carrier is provided to hold a disk while magnetic material is plated simultaneously on the two surfaces of the disk. The carrier contains a first opening substantially the same diameter as the disk and a second opening formed about a center line offset from the center line of the first opening so

대표청구항

A carrier for use in holding a disk, said disk having plane surfaces on opposite sides thereof on which magnetic or other material is to be coated simultaneously, said carrier holding said disk in such a manner as to prevent contact between the plane surfaces to be coated on the disk and the carrier

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Uehara Akira (Yokohama JPX) Kiyota Hiroyuki (Hiratsuka JPX) Miyazaki Shigekazu (Sagamihara JPX) Nakane Hisashi (Kawasaki JPX), Apparatus for automatic semi-batch sheet treatment of semiconductor wafers by plasma reaction.
  2. Boys Donald R. (Cupertino CA) Graves Walter E. (San Jose CA), Disk or wafer handling and coating system.
  3. Boehnke Ralf-Dieter (Hamburg DT) Gotze Waldemar (Hamburg DT), Method of and device for providing thin layers by cathode sputtering.
  4. Yerkes John W. (Granada Hills CA) Avery James E. (Burbank CA), Plasma etching process for the manufacture of solar cells.
  5. Kumagai Henry Y. (Allentown PA), R-F Electrode type workholder and methods of supporting workpieces during R-F powered reactive treatment.
  6. Dean Robert E. (High Bridge NJ) Fink James L. (Millburn NJ), Wafer holding apparatus and method.
  7. Goodner Willis R. (Chandler AZ) Kao Joseph P. Y. (Berkeley CA), Workpiece holder and method for plasma reactor apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. McLeod, Paul Stephen, Apparatus and method for selectively and controllably electrically biasing a plurality of substrates on a pallet.
  2. Akagawa Minoru (Fremont CA) Naoi Satoshi (Fremont CA) Fukumoto Heijiro (San Francisco CA), Disk carrier.
  3. Nguyen, Tin, Disk carrier.
  4. David Wolfer ; Wray Russ, Disk handling system having a telescoping elevator pin.
  5. Russ, Wray, In-line marking system.
  6. Russ, Wray, In-line marking system.
  7. Russ,Wray, In-line marking system.
  8. Russ,Wray, In-line marking system.
  9. Russ,Wray, Memory storage disk handling system.
  10. Russ,Wray, Memory storage disk handling system.
  11. Russ, Wray, Memory storage disk handling system having a servo-driven elevator pin.
  12. Russ,Wray, Memory storage disk handling system having a servo-driven elevator pin.
  13. Wolfer Dave ; Russ Wray H., Memory storage media disk duplication system having a reciprocating disk dispenser.
  14. Bloomquist Darrel R. (Boise ID) Drennan George A. (Eagle ID) Opfer James E. (Palo Alto CA), Planetary substrate carrier method and apparatus.
  15. Wolfer David ; Russ Wray, Printer and disk dispenser combination.
  16. Wolfer Dave ; Russ Wray H., Rotatable handling system and method for handling memory storage disks.
  17. McLeod, Paul Stephen; Kim, Taesun Ernest, Segmented pallet for disk-shaped substrate electrical biassing and apparatus comprising same.
  18. Wilkinson Thomas F. (Garland TX), Semiconductor wafer carrier design.
  19. Lewis William A. ; Aragon Steven, Sputter coating system and method using substrate electrode.
  20. Nozawa Naoyuki,JPX ; Hasegawa Yoshiro,JPX, Substrate holder.
  21. Takaki Kurita,JPX ; Nozawa Naoyuki,JPX ; Hasegawa Yoshiro,JPX, Substrate holder for reducing non-uniform film characteristics resulting from support structures.
  22. Russ,Wray, Thermal printer.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로