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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0716854 (1985-03-28) |
우선권정보 | DE-3413001 (1984-04-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 8 |
Cathode sputtering apparatus with at least two adjacently arranged stations including a charging station and a coating station. At least one sputtering cathode and a substrate carrier that can execute reciprocatory movement between the stations are arranged on a vacuum chamber. The substrate carrier
Cathode sputtering apparatus comprising: a vacuum chamber; at least two adjacently arranged stations including a charging station and a coating station; at least one sputtering cathode means; a substrate holder able to execute reciprocal movement between said stations; a pivot bearing passing throug
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