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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0667989 (1984-11-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 3 |
An improved reaction chamber for CVD is disclosed that combines the advantageous features of the known horizontal and vertical designs while minimizing their respective short comings. The improved reaction chamber essentially comprises a vertical, double-walled reaction tube having a tapered top pro
A reaction chamber for CVD comprising: (a) a vertical reaction tube having a tapered top provided with a concentric gas inlet and a bottom provided with a gas outlet; (b) a base plate for supporting said vertical reaction tube; (c) means for cooling said vertical reaction tube and said base plate; (
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