$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Method of burnishing malleable films on semiconductor substrates 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B21D-039/00
출원번호 US-0610016 (1984-05-14)
발명자 / 주소
  • Hawrylo Frank Z. (Hamilton Township
  • Mercer County NJ)
출원인 / 주소
  • RCA Corporation (Princeton NJ 02)
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 3

초록

An improved burnishing method suitable for planarizing bonding pads on fragile semiconductor devices is disclosed. The method comprises imparting scratches of predetermined depth and spacing onto a glass slide. The bonding pad surface is contacted to the scratched glass surface under a desired press

대표청구항

A method of burnishing a malleable film on a semiconductor substrate to provide a smooth, defect-free surface comprising: imparting scratches of a desired depth and spacing into a first major surface of a smooth glass plate; contacting the first major surface of the glass plate to the malleable film

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Yonezu Hiroo (Tokyo JA) Yuasa Tonao (Tokyo JA), Injection semiconductor laser device.
  2. Barnett David L. (Phoenix AZ), Method and apparatus for polishing floppy discs.
  3. Botez Dan (Mount Holly NJ), Single filament semiconductor laser with large emitting area.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Nakamura, Hidehiro; Nakaso, Akishi; Arike, Shigeharu; Inoue, Fumio; Enomoto, Tetsuya; Moriike, Norio; Hiroki, Kousuke, Connection board, and multi-layer wiring board, substrate for semiconductor package and semiconductor package using connection board, and manufacturing method thereof.
  2. Matsuda Tetsuo (Poughkeepsie NY) Okumura Katsuya (Poughkeepsie NY), Method of planarizing a semiconductor workpiece surface.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로