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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0610016 (1984-05-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 3 |
An improved burnishing method suitable for planarizing bonding pads on fragile semiconductor devices is disclosed. The method comprises imparting scratches of predetermined depth and spacing onto a glass slide. The bonding pad surface is contacted to the scratched glass surface under a desired press
A method of burnishing a malleable film on a semiconductor substrate to provide a smooth, defect-free surface comprising: imparting scratches of a desired depth and spacing into a first major surface of a smooth glass plate; contacting the first major surface of the glass plate to the malleable film
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