[특허]Suction nozzle

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B05C-011/02 B05C-011/06
출원번호	US-0649800 (1984-09-12)
우선권정보	JP-0141123 (1983-09-12)
발명자 / 주소	Iwata Isamu (Shizuoka JPX) Hosoe Hirotaro (Shizuoka JPX) Matsuoka Yuji (Shizuoka JPX)
출원인 / 주소	Fuji Photo Film Co., Ltd. (Kanagawa JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 0

초록 ▼

An improved suction nozzle for removing raised edge portions of coated layer formed on flexible substrates such as photographic film, pre-sensitized plate, or magnetic tape. The suction nozzle has a dual pipe structure with a cleaning liquid jetting outlet and a cleaning liquid sucking inlet at one end thereof. The jetting outlet is offset from a longitudinal axis of the nozzle and forms an angle of 30°to 85°with respect to that longitudinal axis. The sucking inlet is located along the longitudinal axis.

대표청구항 ▼

In a suction nozzle having a dual pipe structure with a cleaning liquid jetting outlet and a cleaning liquid sucking inlet at an end thereof, the improvement therein: said jetting outlet is offset from a longitudinal axis of said nozzle and forms an angle in a range of 30°to 85°with respect to a lin

이 특허를 인용한 특허 (20)

Zahorik, Russell C.; Hudson, Guy F.; Stroupe, Hugh E.; Dobson, Todd A.; Gordon, Brian F., Apparatus and methods for selective removal of material from wafer alignment marks.
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Hashimoto, Yoshiaki; Sato, Yasuyuki, Apparatus for removing a coating film.
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Konishi Nobuo (Tokyo JPX) Sekiguchi Kenji (Tokyo JPX), Apparatus for removing process liquid.
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Zahorik, Russell C.; Hudson, Guy F.; Stroupe, Hugh E.; Dobson, Todd A.; Gordon, Brian F., Apparatus for selective removal of material from wafer alignment marks.
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Zahorik, Russell C.; Hudson, Guy F.; Stroupe, Hugh E.; Dobson, Todd A.; Gordon, Brian F., Apparatus for selective removal of material from wafer alignment marks.
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Doan Trung T., Chemical dispensing system for semiconductor wafer processing.
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Doan, Trung T., Chemical dispensing system for semiconductor wafer processing.
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Doan,Trung T., Chemical dispensing system for semiconductor wafer processing.
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Glezer, Ari; Crittenden, Thomas M., Combustion-driven jet actuator.
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Yoshihara, Kousuke; Kyouda, Hideharu; Muta, Koshi; Yamamoto, Taro; Takiguchi, Yasushi; Fukuda, Masahiro, Developing method, developing apparatus and storage medium.
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Uchida Masami (Hirakata JPX) Minamide Seiko (Nara JPX), Method for producing information storage disk.
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Hudson,Guy F.; Stroupe,Hugh E.; Dobson,Todd A.; Gordon,Brian F.; Zahorik, deceased,Russell C., Methods for selective removal of material from wafer alignment marks.
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Zahorik, Russell C.; Hudson, Guy F.; Stroupe, Hugh E.; Dobson, Todd A.; Gordon, Brian F., Methods for selective removal of material from wafer alignment marks.
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Ari Glezer ; Mark G. Allen, Micromachined synthetic jet actuators and applications thereof.
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Glezer, Ari; Amitay, Michael, Modification of fluid flow about bodies and surfaces through virtual aero-shaping of airfoils with synthetic jet actuators.
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Glezer Ari ; Smith Barton L. ; Trautman Mark A., Modifications of fluid flow about bodies and surfaces with synthetic jet actuators.
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Glezer Ari ; Allen Mark G. ; Coe David J. ; Smith Barton L. ; Trautman Mark A. ; Wiltse John W., Synthetic jet actuator and applications thereof.
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Glezer Ari ; Allen Mark G., Synthetic jet actuators for cooling heated bodies and environments.
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Glezer Ari ; Wiltse John W., Synthetic jet actuators for mixing applications.
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Glezer Ari ; Smith Barton L., Synthetic jet actuators for modifiying the direction of fluid flows.
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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