$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Paired electrodes for plasma chambers 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-015/00
  • C23F-001/00
출원번호 US-0641164 (1984-08-15)
발명자 / 주소
  • Fazlin Fazal A. (St. Petersburg FL)
출원인 / 주소
  • Advanced Plasma Systems Inc. (St. Petersburg FL 02)
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 11

초록

A paired electrode for use in a plasma chamber. In one embodiment, the paired electrode comprises a plurality of angle members which are disposed parallel to one another. Pairs of the angle members are positioned facing one another, one functioning as a power electrode member and the other as a grou

대표청구항

An electrode pair for plasma chambers, comprising in combination: a plurality of power electrode members; a plurality of ground electrode members; each said electrode members comprising an angle cross-sectional configuration having a wider side portion and a narrower side portion connected along the

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Buhl Rainer (Sargans CHX) Signer Hans (Oberschaan CHX), Cathode shielded coating apparatus.
  2. Kudo Daijiro (Yokohama JPX) Ikeda Kiyoshi (Kitakyusyu JPX), Method for processing substrate materials by means of plasma treatment.
  3. Dozier Alfred R. (9332 Portsmouth Dr. Huntington Beach CA 92646), Mounting and excitation system for reaction in the plasma state.
  4. Maher, Jr., Joseph A.; Zafiropoulo, Arthur W., Multi-planar electrode plasma etching.
  5. Fazlin Fazal A. (11400 4th St. N. #101 St. Petersburg FL 33702), Plasma desmearing apparatus and method.
  6. Fazlin Fazal A. (Saint Anthony Village MN), Plasma desmearing apparatus and method.
  7. Engle Frank W. (Pleasanton CA), Plasma reactor and method therefor.
  8. Frohlich Sigurd (Santa Barbara CA) Morris James V. (El Toro CA), Process for plasma desmear etching of printed circuit boards and apparatus used therein.
  9. Kumagai Henry Y. (Allentown PA), R-F Electrode type workholder and methods of supporting workpieces during R-F powered reactive treatment.
  10. Gorin Georges J. (Emeryville CA) Lindsey ; Jr. Paul C. (Lafayette CA), Reactor apparatus for plasma etching or deposition.
  11. Cannella Vincent D. (Detroit MI) Nath Prem (Rochester MI) Shuman Robert J. (Clawson MI), Reduced capacitance electrode assembly.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Brass, William J.; Fierro, Louis; Getty, James D., Magnetic clips and substrate holders for use in a plasma processing system.
  2. Rust Ray Dean, Method and apparatus for vacuum deposition of highly ionized media in an electromagnetic controlled environment.
  3. Bolden, II, Thomas V.; Fierro, Louis; Getty, James D., Multiple-electrode plasma processing systems with confined process chambers and interior-bussed electrical connections with the electrodes.
  4. Bolden, Thomas V.; Fierro, Louis; Getty, James D., Multiple-electrode plasma processing systems with confined process chambers and interior-bussed electrical connections with the electrodes.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로