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Gas purifier for rare-gas fluoride lasers

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01B-007/00
  • C01B-009/08
출원번호 US-0728121 (1985-04-29)
발명자 / 주소
  • Fan Bunsen (Peekskill NY)
출원인 / 주소
  • International Business Machines Corporation (Armonk NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 2

초록

A closed-cycle gas scrubbing or purification system is described for noble gas and fluorine mixtures, such as are typically used in rare-gas fluoride (excimer) lasers. In a first reaction zone, the fluorine in the gas mixture is converted to titanium tetrafluoride vapor by reaction with titanium at

대표청구항

A closed-cycle gas purification method for rare-gas fluorine mixtures, comprising the steps of: contacting a gas mixture comprising a rare gas and fluorine with titanium at a temperature above 150 degrees C. to convert fluorine in said gas mixture to titanium tetrafluoride vapor, said titanium possi

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Ishiwata Shosuke (Ibaragi JA) Ozaki Kaoru (Chigasaki JA), Method of cleaning waste gas containing a fluorine component.
  2. Teller Aaron J. (Westboro MA), Selective chromatographic separation.

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Turner Robert (St. James NY), Catalytic converter.
  2. Furumoto Horace W. (Wellesley MA) Ceccon Harry L. (Boston MA) Hsia James C. (Andover MA), Dye laser solution circulation system.
  3. Dean, Jesse; Miller, Ian J.; Williams, Edward S.; Hunter, John H., Excimer laser with gas purification.
  4. Carolan,Michael Francis; Miller,Christopher Francis, Feed gas contaminant removal in ion transport membrane systems.
  5. Osmanow, Rustem; Rebhan, Ulrich, Gas discharge laser with means for removing gas impurities.
  6. Suzuki, Natsushi; Wakabayashi, Osamu; Tsushima, Hiroaki; Yashiro, Masanori, Gas laser apparatus.
  7. Suzuki, Natsushi; Wakabayashi, Osamu; Tsushima, Hiroaki; Yashiro, Masanori, Gas laser apparatus.
  8. Ravex Alain,FRX ; Laborde Patrick,FRX ; Stehle Robert,FRX, Gas laser device and integrated gas purifying means.
  9. Stein, VanEric Edward; Carolan, Michael Francis; Chen, Christopher M.; Armstrong, Phillip Andrew; Wahle, Harold W.; Ohrn, Theodore R.; Kneidel, Kurt E.; Rackers, Keith Gerard; Blake, James Erik; Nataraj, Shankar; Van Doorn, Rene Hendrik Elias; Wilson, Merrill Anderson, Ion transport membrane module and vessel system.
  10. Stein,VanEric Edward; Carolan,Michael Francis; Chen,Christopher M.; Armstrong,Phillip Andrew; Wahle,Harold W.; Ohrn,Theodore R.; Kneidel,Kurt E.; Rackers,Keith Gerard; Blake,James Erik; Nataraj,Shankar; van Doorn,Rene Hendrik Elias; Wilson,Merrill Anderson, Ion transport membrane module and vessel system.
  11. Holmes, Michael Jerome; Ohrn, Theodore R.; Chen, Christopher Ming-Poh, Ion transport membrane module and vessel system with directed internal gas flow.
  12. Carolan, Michael Francis; Miller, Christopher Francis, Liners for ion transport membrane systems.
  13. Kataoka,Kotaro; Iwata,Hiroshi; Nakano,Masayuki, Process for fabricating a semiconductor device.
  14. Kataoka, Kotaro; Iwata, Hiroshi; Nakano, Masayuki, Process for manufacturing semiconductor device.
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